PROCESS SHIELD FOR A SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER

【物品用途】;本設計所請求之基板處理腔室的製程護罩係用於半導體製程。;【設計說明】;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	LAVITSKY, ILYA, YOSHIDOME, GOICHI, Ａ MILLER, KEITH A
Format:	Patent
Sprache:	chi ; eng
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Beschreibung
Zusammenfassung:	【物品用途】;本設計所請求之基板處理腔室的製程護罩係用於半導體製程。;【設計說明】;圖式所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。