İnce film kaplamaların çöktürülmesi için düzenek ve bu düzeneğin kullanılması için çöktürme usulü

Bu buluş, ince film kaplamaların bir alt tabaka üzerine çöktürülmesi için bir düzenekle ilgilidir. Çöktürme düzeneği, çöktürülecek gaz haldeki reaktan malzemeleri, bir veya daha çok ayırma aygıtı ve/veya usulü ile çöktürme düzeneğinin içinde birbirinden ayrı tutmak, ancak yine de kimyasal reaktanlar...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	DAVID A., STRICKLER, MICHEL J., SOUBEYRAND, YASUNORI, SETO, KEIKO, TSURI, DOUGLAS M., NELSON, IAN R., WILLIAMS, KEVIN D., SANDERSON
Format:	Patent
Sprache:	tur
Schlagworte:	CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL GLASS INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS METALLURGY MINERAL OR SLAG WOOL SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS SURFACE TREATMENT OF GLASS SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	Bu buluş, ince film kaplamaların bir alt tabaka üzerine çöktürülmesi için bir düzenekle ilgilidir. Çöktürme düzeneği, çöktürülecek gaz haldeki reaktan malzemeleri, bir veya daha çok ayırma aygıtı ve/veya usulü ile çöktürme düzeneğinin içinde birbirinden ayrı tutmak, ancak yine de kimyasal reaktanların, ticari olarak uygulanabilir çöktürme hızlarıyla tekdüze bir film oluşturmak için yeterince hızlı bir şekilde, alt tabaka yüzeyinde veya bu yüzeyin yakınında karışmalarına imkan vermek üzere tasarlanmıştır. The invention relates to an apparatus for depositing thin film coatings on a substrate. The deposition apparatus is designed to keep gaseous reactant materials to be deposited apart from one another in the deposition apparatus, by one or more separation devices and/or methods, but nevertheless, to allow the chemical reactants to mix and react at or near the substrate surface, rapidly enough to create a uniform film at commercially viable deposition rates.