METHOD OF CHECKING THROUGH PORES IN OXIDE AND NITRIDE FILMS ON SILICON

Bibliographische Detailangaben

Hauptverfasser:	SOLOVEV VALERIJ S,SU, MALYAVKO VYACHESLAV K,SU, TISHKOV VLADIMIR S,SU, CHERNENKO SERGEJ V,SU, KOMAROV FADEJ F,SU, KURYAZOV VLADIMIR D,SU, SHIRYAEV SERGEJ YU,SU
Format:	Patent
Sprache:	eng
Schlagworte:	INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MEASURING PHYSICS TESTING
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