METHOD FOR PREPARING COVER MADE OF BERYLLIUM

FIELD: automatic small arms.SUBSTANCE: method for preparing cover made of beryllium is based ion electron-beam evaporation of metal and its sedimentation on heated metallic backing. The sedimentation process is carried out at the backing temperature 400-600°C in the impulse regimen evaporation and p...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Pogrebnjak Vitalij Ivanovich, Ljubarskij Sergej Vladimirovich, Movchan Boris Alekseevich, Chevychelov Aleksandr Aleksandrovich, Dabizha Evgenij Viktorovich
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: automatic small arms.SUBSTANCE: method for preparing cover made of beryllium is based ion electron-beam evaporation of metal and its sedimentation on heated metallic backing. The sedimentation process is carried out at the backing temperature 400-600°C in the impulse regimen evaporation and pause between impulses in equal crystallization time of bath in evaporating metal. Invention provides enhancing physical-mechanical properties of the cover.EFFECT: improved preparing method. Изобретение относится к автоматическому стрелковому оружию. Способ получения покрытий из бериллия основан на электронно-лучевом испарении металла и осаждении его на нагретую металлическую подложку, при этом осаждение ведут при температуре подложки 400-600°С в импульсном режиме испарения, при длительности импульса, равной 1-10с с паузой между импульсами, равной времени кристаллизации жидкой ванны испаряемого металла. Техническим результатом изобретения является повышение физико-механических свойств покрытия.