METHOD OF DETERMINATION OF CONCENTRATION OF ELECTRODES IN PLASMA GENERATED IN BEAM-PLASMA DEVICES

FIELD: electrophysics. SUBSTANCE: potential of collector of electron beam is set negative relative to frame of decelerating SHF structure to ensure checking and control over concentration of electrons in plasma of beam-plasma SHF amplifier. Current of electron beam and current flowing through collec...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Komov A.L, Lisitsyn A.I
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY PLASMA TECHNIQUE PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: electrophysics. SUBSTANCE: potential of collector of electron beam is set negative relative to frame of decelerating SHF structure to ensure checking and control over concentration of electrons in plasma of beam-plasma SHF amplifier. Current of electron beam and current flowing through collector are measured and potential of collector is changed. When value of collector current exceeds value of beam current concentration of electrons is determined by results of measurements depending on parameters of beam and plasma electrons. EFFECT: improved authenticity of determination of concentration of electrons. 1 dwg Использование: электрофизика, техника СВЧ приборов. Сущность изобретения: для обеспечения контроля и регулирования концентрации электронов в плазме пучково-призменного СВЧ усилителя потенциал коллектора электронного пучка задают отрицательным относительно корпуса замедляющей СВЧ структуры. Измеряют ток электронного пучка и ток, протекающий через коллектор, и изменяют потенциал коллектора. При превышении величиной тока коллекторы величины тока пучка определяют концентрацию электронов по результатам измерений в зависимости от параметров пучковых и плазменных электронов. 1 ил.