DEVICE FOR APPLICATION OF THIN FILMS IN VACUUM

FIELD: devices for application of quality films in vacuum used in electronic industry. SUBSTANCE: gas-discharge chamber of evaporator is made in the form of spiral embraced by body made of nonmagnetic material with profile of supersonic nozzle opened towards substrate. In this case initial parts of spiral are connected through inductive resistor to pulse generator, and spiral end is grounded. The evaporator design makes it possible to obtain flows of applied material with uniform distribution of material and velocity across nozzle cross-section with simple design of evaporator and increased service life. EFFECT: simplified design of device and increased reliability of its operation. 1 dwg Использование: устройство предназначено для нанесения качественных пленок в вакууме и может быть использовано в электронной промышленности. Сущность изобретения состоит в том, что газоразрядная камера испарителя выполнена в виде спирали, охватываемой корпусом из немагнитного материала с профилем сверхзвукового сопла, открытого в сторону подложки, при этом начальные участки спирали подключены через индуктивное сопротивление к генератору импульсов, а конец спирали заземлен. Конструкция испарителя позволяет получать потоки наносимого материала с равномерным распределением концентрации и скорости по поперечному сечению сопла при более простой конструкции испарителя и повышенном ресурсе работы. 1 ил.