HIGH-FREQUENCY INDUCTOR PLASMATRON FOR SPECTRAL ANALYSIS

FIELD: electrical engineering. SUBSTANCE: water-cooled crystal discharge chamber placed inside inductor accommodates coaxially mounted chamber and pipe tightly fixed to it for admitting analyzed substance by means of dielectric vortex ring. Vortex ring has on its surface grooves for passing plasma-f...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Krupennikova E.N, Manasevich F.K, Knjazhevskaja G.S, Portnoj B.M, Belov A.M, Lebedeva M.N, Ehjlenkrig G.S
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:FIELD: electrical engineering. SUBSTANCE: water-cooled crystal discharge chamber placed inside inductor accommodates coaxially mounted chamber and pipe tightly fixed to it for admitting analyzed substance by means of dielectric vortex ring. Vortex ring has on its surface grooves for passing plasma-forming gas in the form of multistart thread. Distance H from ring end facing inductor to closest turn of inductor is chosen from relation at which plasma recirculation torus is obrained in inductor zone. EFFECT: improved accuracy of analysis due to creation of steady plasma recirculation torus coaxial to discharge chamber in inductor zone. 5 dwg Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано в качестве источника возбуждения спектров при спектральном анализе. Целью изобретения является повышение точности анализа путем создания устойчивого соосного разрядной камере тора рециркуляции плазмы в зоне индуктора. Указанная цель достигается за счет того, что внутри кварцевой водоохлаждаемой разрядной камеры, охваченной индуктором, установлена соосно камера и плотно с ней трубка для ввода анализируемого вещества с помощью кольца закрутки из диэлектрического материала. На поверхности кольца закрутки выполнены канавки для подвода плазмообразующего газа в виде многозаходной резьбы. Расстояние H от торца кольца, обращенного в сторону индуктора, до ближайшего витка индуктора, выбрано из соотношения, при котором достигается тор рециркуляции плазмы в зоне индуктора. 5 ил.