DRY-FILM PHOTORESIST OF WATER-ALKALINE DEVELOPMENT

FIELD: photoresist. SUBSTANCE: to enhance resolving power and stability to overdevelopment, use is made of some other styrene carboxyl-containing copolymer in photopolarized layer of other quantitative composition. The latter includes, mas.p.: styrene carboxyl-containing copolymer 90-110; n-butanol 2-7; dimethyl phthalate-bis-(dimethylamino)phthalate 30-60; photoinitiator - 4,4'-bis- (dimethylamino)benzophenone 0.25-1.6; benzophenone 3.2-7,274; inhibitor of thermopolymerization 0.005-0.2; dye 0.05-0.25. Dry-film photoresist consists of polyethylene terephthalate base, photopolymerization layer of indicated composition and protective polyethylene film. Styrene carboxyl-containing copolymer has formula indicated in invention description. EFFECT: better coefficient of overdevelopment (up to 5.38 versus 2.75), less minimal width of reproduced line on protective relief (up to 80 versus 135 mcm). 2 tbl Изобретение касается фоторезистов, в частности сухого пленочного фоторезиста (СФР) водно-щелочного проявления для получения защитных рельефов при изготовлении печатных плат, в радио- и электротехнической промышленности. Для повышения разрешающей способности и устойчивости к перепроявлению используют другой карбоксилсодержащий сополимер стирола (КС) в фотополимеризующемся слое (ФС) другого количественного состава. Последний включает, мас.ч.: КС 90 - 110; н-бутанол 2 - 7; диметилфталат-бис-(этиленгликоль)фталат 30 - 60; фотоинициатор - 4,4′-бис- (диметиламино)бензофенон 0,25-1,6; бензофенон 3,2 - 7,274; ингибитор термополимеризации 0,005 - 0,2; краситель 0,05 - 0,25, СФР состоит из полиэтилентерефталатной основы, ФС указанного состава и защитной полиэтиленовой пленки. КС имеет формулу (CH-CHK-CHM-CHX)(-CH-CHK-CHY-CHX), где K-фенил; M - карбоксил; X= -C(O)-O-CH; Y= -C(O)-O-CH-CH(OH)-CH-O-C(O)-C-(CH)=CH; m= 97-99 мол% , n = 1 - 3 мол.%, мол.м. 1-2,5·10. Испытания СФР показывают, что он имеет лучший коэффициент перепроявления (до 5,38, против 2,75), меньшую минимальную ширину воспроизводимой линии на защитном рельефе (до 80 против 135 мкм). 2 табл.