MODE CONTROL METHOD FOR BEAM-PROCESSING UNIT
FIELD: electrical engineering. SUBSTANCE: unit has power supply 1 with primary source 6, mode control unit 2, electron gun 3 with differential pumping system 29 and beam guide, processing chamber 4, X-ray sensor 5. Control unit 2 is built around electron-beam diodes 10,11. Diode shorting out the gun...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: electrical engineering. SUBSTANCE: unit has power supply 1 with primary source 6, mode control unit 2, electron gun 3 with differential pumping system 29 and beam guide, processing chamber 4, X-ray sensor 5. Control unit 2 is built around electron-beam diodes 10,11. Diode shorting out the gun is connected in series with ballast load 15. Electron beam 28 goes through pumping system 29 to process chamber 4 with object 31 to be heated. X-ray sensor 5 is mounted on axle of chamber 4. In case of beam instability X-ray sensor 5 supplies signal to control unit 2 which cuts off diode 10 and drives in conduction diode 11 which ensures suppression of accelerating field in gun 3 and eliminated emergency breakdown in channel due to control of transient processes. Primary source 6 operated into circuit of diode 11 to maintain constant anode current of gun 3. During switching intervals energy stored in reactance links gradually passes to shorting-out circuit and back thereby affording optimum mode for source 6. Problem of process short circuit in gun is eliminated which determines high efficiency of unit. EFFECT: enlarged functional capabilities of beam-processing unit. 7 dwg
Изобретение относится к электротехнике. Цель изобретения - расширение функциональных возможностей лучевой технологической установки. Установка содержит силовой источник питания 1 с первичным источником (ПИ) 6, блок управления режимом (БУ) 2, электронную пушку 3 с системой дифференциальной откачки (СО) 29 и лучеводом, технологическую камеру 4, датчик рентгеновского излучения (ДИ) 5. БУ 2 выполнен на основе электронно-лучевых вентилей (В) 10, 11. Вентиль, шунтирующий пушку, включен последовательно с балластной нагрузкой 15. Электронный пучок 28 проходит через СО 29 в технологическую камеру 4 с объектом нагрева 31. На оси камеры 4 установлен ДИ 5. При наличии неустойчивости пучка ДИ 5 подает сигнал на БУ 2, который запирает В 10 и отпирает В 11, что обеспечивает гашение, ускоряющего поля в пушке 3 и исключает аварийный пробой в тракте за счет управления переходными процессами. ПИ 6 работает на цепь В 11, сохраняя постоянным ток анода пушки 3. В интервалах коммутации запасенная в реактивных звеньях энергия плавно переходит в шунтирующий контур и обратно, обеспечивая оптимальный режим ПИ 6. Эффективность установки определяется снятием проблемы технологического КЗ в пушке. 7 ил. |
---|