DEVICE FOR PLASMA FLOW TREATMENT OF PLATES

FIELD: electronic and electric engineering. SUBSTANCE: device has chamber 1, which contains drive 12 which moves holders 14 which have common drive 18 for their rotation. In addition chamber contains plasma flow generator 10. In addition manipulator 27 and accumulators 28 which hold plate 29 are located outside chamber 1. Processed plate 29 is taken by manipulator 27 from accumulator 28 and mounts in holder 14 which moves together with plate 29, runs over generator plasma flow 10 which process said plate. This cycle may be repeated several times. EFFECT: increased efficiency. 5 dwg Использование: в технологии плазменной обработки плоских изделий, например пластин, в электронной и электротехнической промышленностях. Сущность изобретения: установка для плазмоструйной обработки пластин включает установленные в замкнутой камере 1 привод 12 углового перемещения держателей 14, снабженных общим приводом 18 их вращения, генератор 10 плазменной струи и установленные вне замкнутой камеры 1 манипулятор 27 и накопители 28 пластин 29. Обрабатываемая пластина 29 берется манипулятором 27 из накопителя 28 и устанавливается в держатель 14, который, перемещаясь вместе с пластиной 29, проходит над генератором 10 плазменной струи, которая обрабатывает пластину. Цикл может повторяться заданное количество раз.