MULTILAYER COATING MATERIAL

FIELD: chemical industry. SUBSTANCE: multilayer material comprising alternating layers, namely titanium nitride-based layer be contains (wt%): 0.1-0.3 rhenium nitride; 0.2-0.5 molybdenum nitride; 0.3-0.6 vanadium nitride; 0.1-0.13 niobium nitride; 0.13-0.36 one or more metals selected from group con...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	SHUMEJKO V.I, KHOMJAK B.S, SMIRNITSKIJ V.V, KHOMJAK I.B, BEREZUEV A.I, VASIL'EVA M.P, KHOMJAK P.B, SYSOEV V.A
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	CHEMICAL SURFACE TREATMENT CHEMISTRY COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL COATING METALLIC MATERIAL DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL METALLURGY SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: chemical industry. SUBSTANCE: multilayer material comprising alternating layers, namely titanium nitride-based layer be contains (wt%): 0.1-0.3 rhenium nitride; 0.2-0.5 molybdenum nitride; 0.3-0.6 vanadium nitride; 0.1-0.13 niobium nitride; 0.13-0.36 one or more metals selected from group consisting of ruthenium, rhodium, palladium and titanium nitride layer. Besides, the titanium nitride layer may further contain (wt%): 0.6-0.8 hafnium nitride; 0.2-0.4 tantalum nitride; 0.1-0.3 tantalum nitride; 0.1-0.3 tungsten nitride; 1.3-1.7 zirconium nitride. In addition, chromium nitride layer may be located between alternating layers. EFFECT: improved properties of the multilayer coating material. Многослойный материал,состоящий из чередующихся слоев - слоя на основе нитрида титана, содержащий в мас.% : нитрид рения O.I - 0.3; нитрид молибдена 0.2 - 0.5; нитрид ванадия 0.3 - 0.6; нитрид ниобия 0.1 - 0.13; один или несколько металлов из группы: рутений, родий, палладий и слоя из нитрида титана 0.13 - 0.36. Кроме того, слой нитрида титана может дополнительно содержать в мас.%: нитрид гафния 0.6 - 0.8; нитрид тантала 0.2 - 0.4; нитрид вольфрама 0.1 - 0.3; нитрид циркония 1.3 - 1.7. Кроме того, между чередующимися слоями может быть расположен слой нитрида хрома.