ROLL-TYPE CVD REACTOR FOR SYNTHESISING GRAPHENE COATINGS ON SUBSTRATES IN THE FORM OF A WIDE STRIP

FIELD: coatings.SUBSTANCE: invention relates to a class of roll reactors for chemical deposition from the gas phase of thin graphene films. Claimed is a roll-type CVD reactor including a vacuum working chamber divided into three chambers (a central chamber with heat-insulated heating areas and side chambers with rollers for moving the substrate through the heating area, a substrate tensioning unit, and a drive), a system of heat controllers, a system for moving the substrate, a gas supply system, and a vacuum pumping system. A characteristic feature of the reactor is the fact that the heat-insulated heating area and the system for moving the strip substrate are located inside the vacuum chamber, thus preventing the contact of the metal substrate with the graphene layer applied thereon with the atmosphere until complete cooling.EFFECT: invention ensures creation of a compact apparatus for synthesising high-quality coatings on substrates in the form of a wide strip with lower requirements for heat insulation and vacuum pumping.4 cl, 2 dwg, 1 ex Изобретение относится к классу рулонных реакторов для реализации химического осаждения из газовой фазы тонких плёнок графена. Заявлен CVD реактор рулонного типа, включающего вакуумную рабочую камеру, разделённую на три камеры (центральную с теплоизолированными зонами нагрева и боковые с роликами для перемещения подложки через зону нагрева, узлом натяжения подложки и приводом), систему терморегуляторов, систему перемещения подложки, систему подачи газа и систему вакуумной откачки. Отличительной особенностью реактора является то, что теплоизолированная зона нагрева и система перемещения ленточной подложки расположены внутри вакуумной камеры, что исключает контакт металлической подложки с нанесённым на неё слоем графена с атмосферой до полного остывания. Изобретение обеспечивает создание компактного устройства для синтеза покрытий высокого качества на подложках в виде широкой ленты при меньших требованиях к теплоизоляции и вакуумной откачке. 3 з.п. ф-лы, 2 ил., 1 пр.