METHOD OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF NiFePERMALLOY FILMS WITH INCREASED ACCURACY REPRODUCIBILITY COMPOSITION

FIELD: electroplating.SUBSTANCE: invention relates to the field of electroplating and can be used to obtain a magnetic material of the elements of integrated microsystems concentrating or shielding a magnetic field. Method involves the deposition of a film in a galvanic bath at a current density of 20 ± 1.0 mA/cm, temperature 60-70 °C with stirring electrolyte containing nickel chloride NiCl⋅6HO and ferric chloride FeCl⋅4HO, providing the ratio of the concentrations of nickel atoms and iron N/N= 4.26, boric acid HIN- 30 g/l, saccharin baking powder CHNOS - 5 g/l, hydrochloric acid HCl (30 %) to obtain a pH of 1.7 ± 10 %, deposition is carried out in local areas limited by a photoresistive mask on an oxidized silicon wafer metallized with nickel with a nichrome underlayer, while the metallized layer is in contact with the nickel cathode electrode on the edge of the plate, the electrolyte is purified from ferric iron by filtering ferric oxide in the preparation, and to compensate for the removed ferric chloride and an increased nickel deposition rate, electrolyte is supplemented with purified ferrous chloride to form the NiFecomposition, and during the deposition of films by the anode serves the carbon plate.EFFECT: technical result: improving the reproducibility of the exact composition of permalloy films and improving their magnetic properties.1 cl, 4 dwg Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для получения магнитомягкого материала элементов интегральных микросистем, концентрирующих или экранирующих магнитное поле. Способ включает осаждение пленки в гальванической ванне при плотности тока 20±1,0 мА/см, температуре 60-70°С при перемешивании электролита, содержащего хлорид никеля NiCl⋅6HO и хлорид железа FeCl⋅4HO, обеспечивающие отношение концентраций атомов никеля и железа N/N= 4,26, борной кислоты НВО- 30 г/л, разрыхлителя сахарина CHNOS - 5 г/л, соляной кислоты HCl (30%) для получения рН 1,7±10%, осаждение проводят в локальных областях, ограниченных фоторезистивной маской на окисленной кремниевой пластине, металлизированной никелем с подслоем нихрома, при этом металлизированный слой контактирует с никелевым электродом катода на краю пластины, при этом электролит при приготовлении очищают от трехвалентного железа за счет фильтрации оксида трехвалентного железа, а для компенсации удаленного хлорида железа и повышенной скорости осаждения никеля в электролит вносят добавку очищенного хлорида двухвалентного железа для получен