METHOD FOR DETERMINING WAVE ABERRATIONS OF OPTICAL SYSTEM

FIELD: optics.SUBSTANCE: invention relates to the field of optics and concerns a method for determining wave aberrations. In the implementation of the method homocentric light beam with a wavelength λ is directed to the optical system. Determine the position of the plane P, in which the peak intensi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: Sirazetdinov Vladimir Sabitovich, Linskij Pavel Mikhajlovich, Dmitriev Igor Yurevich, Nikitin Nikolaj Vitalevich
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:FIELD: optics.SUBSTANCE: invention relates to the field of optics and concerns a method for determining wave aberrations. In the implementation of the method homocentric light beam with a wavelength λ is directed to the optical system. Determine the position of the plane P, in which the peak intensity of the light beam in the intensity distribution of the light beam has a maximum value of I. Measure the distance Lfrom plane Pto the plane P, contacting the last surface of the optical system. Determine the contour of the isophot in the intensity distribution in the plane Pby the level of 0.2⋅Iand distance ρ maximum point removal with peak intensity Ifrom the isophot contour. Register the intensity distribution I(ξ, η) of light beam in coordinates (ξ, η) of plane P, whose position is chosen at a distance of |L|=16⋅ρ/λ from plane P. Wave aberrations w(x, y) are determined from the equation connecting w(x, y) in the (x, y) coordinates of the plane P with the intensity distribution of the light beam in the plane P.EFFECT: technical result consists in increasing the accuracy, simplifying the requirements for implementing the operations of the method, reducing the complexity of processing the measurement results and ensuring the possibility of applying the method to optical systems, on which circuit solutions there are no preliminary information.1 cl, 8 dwg Изобретение относится к области оптики и касается способа определения волновых аберраций. При осуществлении способа направляют гомоцентрический световой пучок с длиной волны λ на оптическую систему. Определяют положение плоскости П, в которой пиковая интенсивность светового пучка в распределении интенсивности светового пучка имеет максимальное значение I. Измеряют расстояние Lот плоскости Пдо плоскости П, соприкасающейся с последней поверхностью оптической системы. Определяют контур изофоты в распределении интенсивности в плоскости Ппо уровню 0,2⋅Iи расстояние ρ максимального удаления точки с пиковой интенсивностью Iот контура изофоты. Регистрируют распределение интенсивности I(ξ, η) светового пучка в координатах (ξ, η) плоскости П, положение которой выбирают на удалении |L|=16⋅ρ/λ от плоскости П. Волновые аберрации w(x, y) определяют из уравнения, связывающего w(x, y) в координатах (x, y) плоскости П с распределением интенсивности светового пучка в плоскости П. Технический результат заключается в повышении точности, упрощении требований к реализации операций способа, уменьшении сложности обработки результатов