METHOD FOR PRODUCING SPRAYABLE COMPOSITE TARGET CONTAINING CoMnSi HEUSLER ALLOY PHASE

FIELD: technological processes.SUBSTANCE: invention relates to the manufacture of a sputtered composite target containing the phase of a CoMnSi Heusler alloy, which can be used in the production of microelectronics. Method includes mechanical mixing of powders of the alloy components with obtaining a homogeneous powder mixture and its sintering-pressing. Sintering-pressing the powder mixture at a temperature of 600 °C and a pressure of 2.5 kN by passing a sequence of DC pulses up to 5 kA with a pulse duration of 3.3 ms through the filling of the powder mixture to obtain a compact. Resulting compact is melted in an induction furnace quartz crucible at 1,300 °C for 3 hours to obtain a homogenized ingot. Ingot is crushed and crushed to obtain particles with a size of 1-200 mcm and sintering-pressing of the composite target from the obtained particles is carried out by the method of electropulse plasma sintering with control of the dilatometric shrinkage curve.EFFECT: it provides a homogenized composition of a mechanically strong composite target, which has a porosity in the range of 2-40 % and contains only the phase of the Heusler alloy of stoichiometric composition.7 cl, 4 dwg, 2 ex Изобретение относится к изготовлению распыляемой композитной мишени, содержащей фазу сплава Гейслера CoMnSi, которая может быть использована при производстве микроэлектроники. Способ включает механическое смешивание порошков компонентов сплава с получением однородной порошковой смеси и ее спекание-прессование. Спекание-прессование порошковой смеси при температуре 600°С и давлении 2,5 кН путем пропускания последовательностей импульсов постоянного тока до 5 кА с длительностью импульса 3,3 мс через засыпку порошковой смеси с получением компакта. Полученный компакт плавят в кварцевом тигле индукционной печи при 1300°С в течение 3 часов с получением гомогенизированного слитка. Cлиток дробят и измельчают с получением частиц размером 1-200 мкм и проводят спекание-прессование композитной мишени из полученных частиц методом электроимпульсного плазменного спекания с контролем дилатометрической кривой усадки. Обеспечивается получение гомогенизированной по составу механически прочной композитной мишени, которая имеет пористость в диапазоне 2-40% и содержит исключительно фазу сплава Гейслера стехиометрического состава. 6 з.п. ф-лы, 4 ил., 2 пр.