ELEMENTS TOPOLOGY SYNTHESIS ACCURACY INCREASING METHOD

FIELD: optics; electrical equipment.SUBSTANCE: invention relates to the field of optoelectronics. Elements topology synthesis accuracy increasing method is in using of the circular scanning laser image generator, containing the optical path to ensure the laser radiation delivery to the recording head, optical workpiece with photosensitive material applied; the laser beam focusing on the optical workpiece surface with the photosensitive material applied; use of two additional combined optical sensors, each of which contains the measuring disk with angular and annular rasters, the measuring raster angular displacement sensor and two linear displacement sensors, as well as use of the two-coordinate optical deflector, which is additionally installed in the optical path so that the two-coordinate optical deflector controlled coordinates directions coincide with the focused laser beam radial and angular displacements directions.EFFECT: technical result consists in reducing of the elements topology formation error value to 10 nm or less, reducing the optical workpiece photosensitive material exposure parasitic modulation value.1 cl, 1 dwg Изобретение относится к области оптоэлектроники. Способ повышения точности синтеза топологии элементов заключается в использовании лазерного генератора изображений с круговым сканированием, содержащего оптический тракт для обеспечения доставки лазерного излучения к головке записи, оптическую заготовку с нанесенным фоточувствительным материалом; фокусировке пучка лазерного излучения на поверхности оптической заготовки с нанесенным фоточувствительным материалом; применении дополнительных двух комбинированных оптических датчиков, каждый из которых содержит измерительный диск с угловым и кольцевым растрами, датчик угловых перемещений измерительного растра и два датчика линейных перемещений, а также применении двухкоординатного оптического дефлектора, который устанавливают дополнительно в оптическом тракте таким образом, чтобы направления управляемых координат двухкоординатного оптического дефлектора совпадали с направлениями радиальных и угловых перемещений сфокусированного пучка лазерного излучения. Технический результат заключается в снижении значения погрешности формирования топологии элементов до 10 нм и менее, уменьшении величины паразитной модуляции экспозиции фоточувствительного материала, нанесенного на оптическую заготовку. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.