METHOD OF MEASURING THE THICKNESS OF COATING IN THE PROCESS OF PLASMA-ELECTROLYTIC OXIDATION
FIELD: measurement technology.SUBSTANCE: use for measuring the thickness of the coating during the process of plasma-electrolytic oxidation of valve metals. Essence of the invention is that the method for determining the thickness of the coating includes measuring the voltage during the coating proc...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: measurement technology.SUBSTANCE: use for measuring the thickness of the coating during the process of plasma-electrolytic oxidation of valve metals. Essence of the invention is that the method for determining the thickness of the coating includes measuring the voltage during the coating process, where the average and amplitude values of the processing voltage are measured, then their ratio is found, and the coating thickness h is determined by the formulawhere kand k- empirical coefficients, depending on the nature of the material being processed and the composition of the electrolyte, determined by calibration curves; Uand Uare average and amplitude values of the processing voltage, respectively.EFFECT: increasing the accuracy of determining the thickness of the oxide coating for the timely termination of the process of plasma electrolytic oxidation.1 cl, 5 dwg, 1 tbl
Использование: для измерения толщины покрытия в ходе процесса плазменно-электролитического оксидирования вентильных металлов. Сущность изобретения заключается в том, что способ определения толщины покрытия включает измерение напряжения в процессе получения покрытия, где измеряют среднее и амплитудное значения напряжения обработки, затем находят их отношение, а толщину покрытия h определяют по формулегде kи k- эмпирические коэффициенты, зависящие от природы обрабатываемого материала и состава электролита, определяемые по тарировочным кривым; Uи U- среднее и амплитудное значения напряжения обработки соответственно. Технический результат: повышение точности определения толщины оксидного покрытия для своевременного прекращения процесса плазменно-электролитического оксидирования. 5 ил., 1 табл. |
---|