METHOD OF PRODUCING NANOLITHOGRAPHIC DRAWINGS WITH A CRYSTALLINE STRUCTURE WITH A SUPER-DEVELOPED SURFACE
FIELD: technological processes.SUBSTANCE: usage for nanolithographic drawings with a crystal structure with a super-developed surface. Essence of the invention is that by means of the probe mechanical action on the silicon substrate, a spatial profile is formed in the shape of a region of width 7 mc...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: technological processes.SUBSTANCE: usage for nanolithographic drawings with a crystal structure with a super-developed surface. Essence of the invention is that by means of the probe mechanical action on the silicon substrate, a spatial profile is formed in the shape of a region of width 7 mcm and a depth of 800 nm, then additionally on the surface of the substrate under hydrothermal synthesis method an equimolar solution of zinc acetate Zn(OCH), hexamethyltetramine CHNand N-cetyl-N,N,N-trimethylammonium bromide is applied. Further, heating up to 85 °C is carried out, as a result in the sphere of a spatial profile a nanolithographic drawing with a crystalline structure with a super-developed surface is formed.EFFECT: providing the possibility of forming nanomaterials in the form of nanolithographic drawings with a crystal structure with a super-developed surface.1 cl, 2 dwg
Использование: для нанолитографических рисунков с кристаллической структурой со сверхразвитой поверхностью. Сущность изобретения заключается в том, что путем механического воздействия зонда на кремниевую подложку формируют пространственный профиль в виде области шириной 7 мкм и глубиной 800 нм, после чего дополнительно на поверхность подложки в рамках метода гидротермального синтеза наносят эквимолярный раствор ацетата цинка Zn(OCH), гексаметилтетрамина CHNи N-цетил-N,N,N-триметиламмоний бромид. Далее проводят нагрев до 85°С, в результате чего в области пространственного профиля формируется нанолитографический рисунок с кристаллической структурой со сверхразвитой поверхностью. Технический результат: обеспечение возможности формирования наноматериалов в виде нанолитографических рисунков с кристаллической структурой со сверхразвитой поверхностью. 2 ил. |
---|