METHOD OF PRODUCING OPTICAL QUARTZ GLASS

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: method of producing optical quartz glass includes the preparation of a slurry containing a combustible organic solvent and particles of amorphous SiOfrom 2 to 100 g/l, its homogenization for 0.5-1 hour. The homogenized slurry is then continuously fed with a pump into the flame of the oxygen-hydrogen burner to form molten particles of SiOat the suspended matter consumption of (8-35)⋅10l/min, oxygen consumption - 20-40 l/min, hydrogen consumption - 40-70 l/min. The flame of the oxygen-hydrogen burner is directed to the surface of the substrate located in the furnace and heated up to 1800-2000°C, thereby depositing the molten particles of SiOon the surface of the substrate. The process of depositing particles of SiOis stopped after reaching the calculated thickness of the quartz layer, after which the furnace is inertially cooled.EFFECT: expanding the raw materials base, increasing the transparency in ultraviolet, visible and infrared spectral regions with high transmittance.4 cl, 2 ex, 1 dwg Изобретение относится к области производства кварцевого стекла. Способ получения оптического кварцевого стекла включает приготовление взвеси, содержащей горючий органический растворитель и частицы аморфного SiOот 2 до 100 г/л, последующую ее гомогенизацию в течение 0,5-1 ч. Затем гомогенизированную взвесь при непрерывном перемешивании подают при помощи насоса в пламя кислородно-водородной горелки для образования расплавленных частиц SiOпри расходе взвеси (8-35)⋅10л/мин, расходе кислорода - 20-40 л/мин, расходе водорода - 40-70 л/мин. Пламя кислородно-водородной горелки направляют на поверхность подложки, расположенной в печи и разогретой до 1800-2000°С, осаждая таким образом расплавленные частицы SiOна поверхность подложки. Процесс осаждения частиц SiOпрекращают после достижения расчетной толщины кварцевого слоя, после чего печь инерционно охлаждают. Технический результат - расширение сырьевой базы, повышение прозрачности в ультрафиолетовой, видимой и инфракрасной областях спектра с высоким коэффициентом пропускания в диапазоне от 270 до 2700 нм. 3 з.п. ф-лы, 2 пр., 1 ил.