METHOD OF PRODUCING THIN-FILM COATING BASED ON COMPLEX OXIDE SYSTEMS
FIELD: chemistry.SUBSTANCE: method of producing a thin-film coating based on complex oxide systems involves the preparation of a film-forming solution in the presence of an additive with further application of this solution to the surface of a silicon substrate and the heat treatment. The heat treat...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: chemistry.SUBSTANCE: method of producing a thin-film coating based on complex oxide systems involves the preparation of a film-forming solution in the presence of an additive with further application of this solution to the surface of a silicon substrate and the heat treatment. The heat treatment is carried out in an air atmosphere at 800°C for one hour, phosphoric acid, calcium chloride, and magnesium nitrate are used as an additive.EFFECT: reducing the time of producing thin-film nanoporous coating.2 ex
Изобретение относится к технологии получения тонкопленочных материалов на основе сложных оксидных систем, применяемых в быстро развивающихся областях электронной техники и светотехнической промышленности, строительной индустрии, в качестве декоративных, фильтрующих и перераспределяющих излучение покрытий, биоактивных материалов. Способ получения тонкопленочного покрытия на основе сложных оксидных систем включает приготовление пленкообразующего раствора в присутствии добавки с дальнейшим нанесением этого раствора на поверхность кремниевой подложки и термообработку. Термообработку проводят в атмосфере воздуха при 800°С в течение одного часа, в качестве добавки используют фосфорную кислоту, хлорид кальция и нитрат магния. Изобретение обеспечивает снижение времени получения тонкопленочного нанопористого покрытия. 2 пр. |
---|