PHOTOPOLIMERIZABLE COMPOSITION

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: composition includes a styrenic block copolymer, an oligomer, a solvent, and a photoinitiator. A styrenic block copolymer of the brand Taipol SEBS 6150 is used as the styrenic block copolymer, an epoxy diane resin of the brand YD-128 is used as the oligomer, phenylglycidy...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	Sidorenko Nina Vladimirovna, Vaniev Marat Abdurakhmanovich, Gusev Denis Olegovich, Novakov Ivan Aleksandrovich, Bakhir Olga Vasilevna
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS CHEMISTRY COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS COMPOSITIONS BASED THEREON COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS CORRECTING FLUIDS DYES FILLING PASTES INKS MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS PAINTS PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING POLISHES THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS USE OF MATERIALS THEREFOR WOODSTAINS
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: chemistry.SUBSTANCE: composition includes a styrenic block copolymer, an oligomer, a solvent, and a photoinitiator. A styrenic block copolymer of the brand Taipol SEBS 6150 is used as the styrenic block copolymer, an epoxy diane resin of the brand YD-128 is used as the oligomer, phenylglycidyl ether is used as the solvent, and di (4-methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate as the photoinitiator.EFFECT: increasing the strength of the coating material from the composition.2 tbl, 10 ex Изобретение относится к химии полимеров, в частности к составам на основе эпоксидных смол, применяемым для получения покрытий защитного назначения методом ускоренного их формирования - фотоинициированной полимеризацией. Композиция включает стирольный блок-сополимер, олигомер, растворитель и фотоинициатор. При этом в качестве стирольного блок-сополимера используют стирольный блок-сополимер марки Taipol SEBS 6150, в качестве олигомера - эпоксидную диановую смолу марки YD-128, в качестве растворителя - фенилглицидиловый эфир, а в качестве фотоинициатора - гексафторфосфат ди(4-метилфенил)йодония. Технический результат изобретения заключается в повышении прочности материала покрытия из композиции. 2 табл., 10 пр.