AMPLIFIER HUB OF ELECTRON BEAM WITH ELECTRON MEMBRANE

FIELD: physics.SUBSTANCE: amplifier hub of the electron beam (AHE) comprises a body (1) with an internal axial tapering cavity, having a frusto-conical form, on the surface of which a silicon lattice (2) is applied with a top diamond layer (3). A multilayer electron membrane is installed in the larger hole of the axial cavity, the basis of which is a dynamically stable high-temperature tungsten plate (4) having a complex shape: the external high-temperature surface is flat, and the internal low-temperature surface has a concave hemispherical shape to focus the electrons in the beam. The plate (4) is made of an alloy with a porosity of 85% and a pore diameter of 10-10mcm. The external high-temperature tungsten plate surface (4) has a layer of nanocomposite graphene (5) with nanopores (11), and the internal low temperature one - a layer of aluminium oxide (7) with nanopores (8). The body is provided with the axial anodes (12), (13) mounted at the side of the internal and the external openings and serving to feed the accelerating potentials, providing, respectively, electric electron withdrawal from the plasma flow and to control the energy of electrons and their concentration in the beam, being part of the AHE, and to control the concentration, current power and energy of the electron beam emerging from the AHE.EFFECT: providing the thermal and dynamic stability, improving the efficiency and conversion performance coefficient of the plasma flow energy in electrical power.1 dwg Изобретение относится к области плазменной техники и может быть использовано для выделения пучков электронов из плазмы рабочей среды, создания электрических генераторов на основе энергии электронных пучков, электрореактивных двигателей, электронно-лучевых и ионно-лучевых приборов. Усилитель-концентратор пучка электронов (УКЭ) содержит корпус (1) с внутренней осевой суживающейся полостью, имеющей форму усеченного конуса, на поверхность которой нанесена кремниевая решетка (2) с верхним алмазным слоем (3). В большем отверстии осевой полости установлена многослойная электронная мембрана, основой которой является динамически устойчивая высокотемпературная вольфрамовая пластина (4), имеющая сложную форму: внешняя высокотемпературная поверхность выполнена плоской, а внутренняя низкотемпературная поверхность имеет вогнутую полусферическую форму для фокусирования электронов в пучок. Пластина (4) изготовлена из сплава с пористостью до 85% и диаметром пор 10-10мкм. На внешнюю высокотемпературную