DEVICE AND METHOD FOR PLASMA SUBSTRATE COATING, IN PARTICULAR, TO PRESS LIST
FIELD: electricity.SUBSTANCE: device contains a vacuum chamber (3) and positioned therein electrode (400 ... 409), which is segmented, wherein each of the electrode segments (500 ... 512) has its own connecting output (6) for the source (700 ... 702) of electric energy . The size of the electrode se...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: electricity.SUBSTANCE: device contains a vacuum chamber (3) and positioned therein electrode (400 ... 409), which is segmented, wherein each of the electrode segments (500 ... 512) has its own connecting output (6) for the source (700 ... 702) of electric energy . The size of the electrode segment (500...512) selected to provide electrical energy inside the electrode segment (500...512), is not sufficient for electrical breakdown. When coating a substrate (2) is positioned on the opposite electrode (400 ... 409) and include dedicated electrode segment (500 ... 512) of the electrode (400 ... 409) source (700 ... 706) of energy. The gas, which is stimulated by the plasma chemical vapor deposition on a substrate (2), is added.EFFECT: improving the quality of the coating.25 cl, 12 dwg
Изобретение относится к устройству (100...103) для плазменного нанесения покрытия на подложку (2), в частности прессовальный лист, и способу плазменного нанесения покрытия. Устройство содержит вакуумную камеру (3) и расположенный в ней электрод (400...409), который сегментирован, при этом каждый из электродных сегментов (500...512) имеет собственный соединительный вывод (6) для источника (700...702) электрической энергии. Размер электродного сегмента (500...512) выбран из условия обеспечения электрической энергии внутри электродного сегмента (500...512), не достаточной для электрического пробоя. При нанесении покрытия подложку (2) позиционируют напротив указанного электрода (400...409) и включают предназначенный электродному сегменту (500...512) электрода (400...409) источник (700...706) энергии. Вводят газ, который вызывает стимулированное плазмой химическое осаждение из газовой фазы на подложку (2). 6 н. и 19 з.п. ф-лы, 12 ил. |
---|