SUBSTRATE HOLDER

FIELD: household appliances.SUBSTANCE: invention relates to microwave equipment and can be used for production of holders for substrates, on which films or coatings of different materials, in particular, carbon (diamond) films or coatings are being formed by plasma chemical vapour-phase deposition. Substrate holder is made in the form of a disk of refractory high-temperature transition metal, and the upper surface of the holder is polished, and the lower surface of the holder has annular grooves formed by concentric circles. Between the annular grooves there are outer and central heat-removing elements in the form of annular ledges and central heat-removing element, which is a ledge in the form of a circle.EFFECT: higher uniformity of distribution of temperature field on the surface of the holder, which provides uniform thickness growth of the film.11 cl, 3 dwg, 2 ex Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности углеродные (алмазные) пленки или покрытия. Держатель подложки выполнен в виде диска из тугоплавкого высокотемпературного переходного металла, при этом верхняя поверхность держателя, выполнена шлифованной, а нижняя поверхность держателя содержит кольцевые пазы, образованные концентрическими окружностями. Между кольцевыми пазами образованы внешний и средний теплоотводящие элементы в виде кольцевых выступов и центральный теплоотводящий элемент, представляющий собой выступ в виде круга. Обеспечивается повышение однородности распределения температурного поля по поверхности держателя, обеспечивающего однородность роста пленки по толщине. 10 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 пр.