METHOD OF PRODUCING THIN-FILM COATING

FIELD: materials.SUBSTANCE: invention relates to thin-film glass-ceramic coatings used in material science and medicine. Method of producing thin-film coating based on SiO-TiO-PO-CaO involves preparation of a film-forming solution (FFS) with further application of said solution on surface of a silicon substrate and step-by-step thermal treatment. Method comprises preparing two film-forming solutions, merging said solutions with further application onto a substrate with step-by-step thermal treatment at temperature of 80 °C for 20 min followed by stabilisation annealing at temperature 600 °C for 1 hour. For first FFS components are used at following ratio, wt%: tetrabutoxytitanium - 0.4-1.0; butyl alcohol - balance. For second FFS components are used at following ratio, wt%: tetraethoxysilane - 4.6; calcium chloride - 2.8-3.4; orthophosphoric acid - 0.5; ethyl alcohol - balance.EFFECT: technical result is obtaining coating which is stable over time, having a refraction index and thickness less than 100 nm.3 cl, 3 ex Изобретение относится к тонкопленочным стеклокерамическим покрытиям, широко применяемым в материаловедении и медицинском материаловедении. Способ получения тонкопленочного покрытия на основе SiO-TiO-PO-CaO включает приготовление пленкообразующего раствора (ПОР) с дальнейшим нанесением этого раствора на поверхность кремниевой подложки и ступенчатую термообработку. Предварительно готовят два пленкообразующих раствора, сливают их вместе с дальнейшим нанесением на подложку при ступенчатой термообработке при температуре 80°C в течение 20 мин с последующим стабилизационным отжигом при температуре 600°C в течение 1 ч. Для первого ПОР компоненты используют при следующем соотношении, мас.%: тетрабутоксититан - 0,4-1,0; бутиловый спирт - остальное. Для второго ПОР компоненты используют при следующем соотношении, мас.%: тетраэтоксисилан - 4,6; хлорид кальция - 2,8-3,4; ортофосфорная кислота - 0,5; этиловый спирт - остальное. Технический результат - получение стабильного по времени покрытия с высоким показателем преломления и толщиной менее 100 нм. 2 з.п. ф-лы, 3 пр.