OPTICAL MEASURING SYSTEM AND METHOD FOR QUANTITATIVE MEASUREMENT OF CRITICAL SIZE FOR NANO-SIZED OBJECTS

FIELD: measurement technology.SUBSTANCE: invention relates to methods of measurement of nano-sized objects and more specifically to optical measuring system and corresponding method of measuring for determination of critical dimension (CD) for nano-sized objects. Optical measuring system based on op...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser:	MEDVEDEV ANTON SERGEEVICH, KOPTYAEV SERGEY NIKOLAEVICH, RIABKO MAKSIM VLADIMIROVICH, SHCHEKIN ALEXEY ANDREEVICH
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES MATERIALS THEREFOR MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES MEASURING MEASURING ANGLES MEASURING AREAS MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS NANOTECHNOLOGY OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS OPTICS ORIGINALS THEREFOR PERFORMING OPERATIONS PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES TESTING TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR TRANSPORTING
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: measurement technology.SUBSTANCE: invention relates to methods of measurement of nano-sized objects and more specifically to optical measuring system and corresponding method of measuring for determination of critical dimension (CD) for nano-sized objects. Optical measuring system based on optical microscope for measurement of CD has an optical module made with possibility to illuminate sample and recording defocused images nanostructured surface of sample, a module for controlling parameters of optical system, measurement module integrated optical transfer function (OTF); a module for calculating defocused images, CD estimation module nanostructure, which compares detected and calculated defocused images nanostructured surface and returning value CD nanostructure as a result of said comparison.EFFECT: technical result consists in improvement of accuracy of determination of critical size by finding best conformity between registered and calculated defocused images considering OTF optical measuring system.17 cl, 4 dwg Изобретение относится к методикам измерения наноразмерных объектов и более конкретно к оптической измерительной системе и соответствующему способу измерения для определения критического размера (CD) для наноразмерных объектов. Оптическая измерительная система на основе оптического микроскопа для измерения CD содержит оптический модуль, выполненный с возможностью освещения образца и регистрации дефокусированных изображений наноструктурированной поверхности образца, модуль управления параметрами оптической системы, модуль измерения комплексной оптической передаточной функции (OTF); модуль вычисления дефокусированных изображений, модуль оценки CD наноструктуры, выполненный с возможностью сравнения зарегистрированных и вычисленных дефокусированных изображений наноструктурированной поверхности и возвращения значения CD наноструктуры в результате упомянутого сравнения. Технический результат состоит в повышении точности определения критического размера путем нахождения наилучшего соответствия между зарегистрированными и вычисленными дефокусированными изображениями с учетом OTF оптической измерительной системы. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 4 ил.