METHOD TO PRODUCE CERAMIC HIGH-POROSITY BLOCK-CELL MATERIALS
FIELD: construction.SUBSTANCE: polyurethane matrix of cellular structure is impregnated with ceramic slurry, containing an inert filler - electrically melted corundum, disperse powder of aluminium oxide or high-silica porcelain and solution of polyvinyl alcohol. Drying, annealing is carried out, and...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: construction.SUBSTANCE: polyurethane matrix of cellular structure is impregnated with ceramic slurry, containing an inert filler - electrically melted corundum, disperse powder of aluminium oxide or high-silica porcelain and solution of polyvinyl alcohol. Drying, annealing is carried out, and water suspension is applied, which contains 40-50 wt % of solid phase with the following composition: zeolite NaX- 70-80 wt %, kaolin- 30-20 wt %. After application of each layer of active composition the material is dried at 80÷90°C for 28 hours, and after application of the last layer - thermal treatment at 550÷650°C for at least 3 hours.EFFECT: increased specific surface of active layer.
Изобретение относится к области химической технологии керамических высокопористых ячеистых материалов. Технический результат изобретения заключается в повышении удельной поверхности активного слоя. Полиуретановую матрицу ячеистой структуры пропитывают керамическим шликером, состоящим из инертного наполнителя - электроплавленного корунда, дисперсного порошка оксида алюминия или высокоглиноземистого фарфора и раствора поливинилового спирта. Проводят сушку, обжиг и наносят водную суспензию, содержащую 40-50 мас.% твердой фазы следующего состава: цеолит NaX - 70-80 мас.%, каолин - 30-20 мас.%. После нанесения каждого слоя активной композиции проводят сушку материала при температуре 80÷90°С в течение 2÷8 ч, а после нанесения последнего слоя - термообработку при температуре 550÷650°С в течение не менее 3 ч. |
---|