CHARGE FOR COMPOSITE CATHODE AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE
FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: charge for composite cathode contains the following, wt %: powder of titanium suicide TiSi13.0-63.0, rest for titanium, at that it contains silicon in range 6-25 at %, and initial powders in charge have dispersion 50-160 mcm. Method of manufacturing of composite cathode...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: charge for composite cathode contains the following, wt %: powder of titanium suicide TiSi13.0-63.0, rest for titanium, at that it contains silicon in range 6-25 at %, and initial powders in charge have dispersion 50-160 mcm. Method of manufacturing of composite cathode out of charge means that powder charge is prepared, cathode blank is pressed out it, and sintering in vacuum is performed, at that charge is prepared as per said ratio, cathode blank is pressed out of the charge to achieve the residual porosity from 20 to 25%, cathode blank heating to sintering temperature is performed in the vacuum furnace with rate 2-3 degrees/min, and sintering is performed at temperature 1100-1250°C and isothermal holding 2-4 hours.EFFECT: cathode with minimum density at higher silicon content in it.3 cl, 1 tbl, 4 ex
Изобретение относится к порошковой металлургии, в частности к получению композиционных катодов для ионно-плазменного синтеза многокомпонентных наноструктурных нитридных покрытий. Шихта для композиционного катода содержит, мас.%: порошок силицида титана TiSi13.0-63.0, титан остальное, при этом она содержит кремний в пределах 6-25 ат.%, а исходные порошки в шихте имеют дисперсность 50-160 мкм. Способ изготовления композиционного катода из шихты заключается в том, что готовят порошковую шихту, прессуют из нее заготовку катода и проводят спекание в вакууме, при этом готовят шихту в указанном соотношении, прессуют из шихты заготовку катода до достижения остаточной пористости от 20 до 25%, нагрев заготовки катода до температуры спекания осуществляют в вакуумной печи со скоростью 2-3 град/мин, а спекание проводят при температуре 1100-1250°C и изотермической выдержке 2-4 часа. Получают катод с минимальной плотностью при более высоком содержании в нем кремния. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 4 пр. |
---|