METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM

FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste con...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH, STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH, MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH, ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH
STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH
MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH
ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH
description FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste consisting of silver oxide AgO, palladium, fine glass particles and organic binder. The formed layer is dried and burned in an air atmosphere at 605-700°C. A glass layer is then removed from the surface of the obtained film by evaporation with high-power pulsed laser radiation with a wavelength in the absorption region of the glass. Use of laser radiation with a wavelength corresponding to the absorption maximum of the glass is preferable.EFFECT: wider spectral range of operation of the photosensitive silver-palladium resistive film.2 cl, 3 dwg, 1 ex Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра AgO, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки. Сформированный слой сушат и вжигают в воздушной атмосфере при температуре от 605 до 700°С. С поверхности полученной пленки удаляют стеклянный слой путем испарения мощным импульсным лазерным излучением с длиной волны, лежащей в области поглощения стекла. Предпочтительным является использование лазерного излучения с длиной волны, соответствующей максимуму поглощения стекла. Техническим результатом является расширение спектрального диапазона работы фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 пр.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_RU2558599C2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>RU2558599C2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_RU2558599C23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZLD3dQ3x8HdR8HdT8HX09vRzVwjw8A_xD3b1C_YM8QxzVQj29AlzDdINcPTxcXTxDPVVCHIN9gwGS7l5-vjyMLCmJeYUp_JCaW4GBTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4oFAjU1MLU0tLZyNjIpQAAF3xKqA</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM</title><source>esp@cenet</source><creator>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH ; STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH ; MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH ; ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</creator><creatorcontrib>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH ; STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH ; MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH ; ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</creatorcontrib><description>FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste consisting of silver oxide AgO, palladium, fine glass particles and organic binder. The formed layer is dried and burned in an air atmosphere at 605-700°C. A glass layer is then removed from the surface of the obtained film by evaporation with high-power pulsed laser radiation with a wavelength in the absorption region of the glass. Use of laser radiation with a wavelength corresponding to the absorption maximum of the glass is preferable.EFFECT: wider spectral range of operation of the photosensitive silver-palladium resistive film.2 cl, 3 dwg, 1 ex Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра AgO, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки. Сформированный слой сушат и вжигают в воздушной атмосфере при температуре от 605 до 700°С. С поверхности полученной пленки удаляют стеклянный слой путем испарения мощным импульсным лазерным излучением с длиной волны, лежащей в области поглощения стекла. Предпочтительным является использование лазерного излучения с длиной волны, соответствующей максимуму поглощения стекла. Техническим результатом является расширение спектрального диапазона работы фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 пр.</description><language>eng ; rus</language><subject>AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY ; BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; CINEMATOGRAPHY ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; ELECTROGRAPHY ; HOLOGRAPHY ; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES ; PHOTOGRAPHY ; PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES ; PHYSICS ; SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><creationdate>2015</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20150810&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2558599C2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25542,76516</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20150810&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2558599C2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</creatorcontrib><title>METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM</title><description>FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste consisting of silver oxide AgO, palladium, fine glass particles and organic binder. The formed layer is dried and burned in an air atmosphere at 605-700°C. A glass layer is then removed from the surface of the obtained film by evaporation with high-power pulsed laser radiation with a wavelength in the absorption region of the glass. Use of laser radiation with a wavelength corresponding to the absorption maximum of the glass is preferable.EFFECT: wider spectral range of operation of the photosensitive silver-palladium resistive film.2 cl, 3 dwg, 1 ex Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра AgO, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки. Сформированный слой сушат и вжигают в воздушной атмосфере при температуре от 605 до 700°С. С поверхности полученной пленки удаляют стеклянный слой путем испарения мощным импульсным лазерным излучением с длиной волны, лежащей в области поглощения стекла. Предпочтительным является использование лазерного излучения с длиной волны, соответствующей максимуму поглощения стекла. Техническим результатом является расширение спектрального диапазона работы фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 пр.</description><subject>AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY</subject><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>CINEMATOGRAPHY</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>ELECTROGRAPHY</subject><subject>HOLOGRAPHY</subject><subject>PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES</subject><subject>PHOTOGRAPHY</subject><subject>PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2015</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZLD3dQ3x8HdR8HdT8HX09vRzVwjw8A_xD3b1C_YM8QxzVQj29AlzDdINcPTxcXTxDPVVCHIN9gwGS7l5-vjyMLCmJeYUp_JCaW4GBTfXEGcP3dSC_PjU4oLE5NS81JL4oFAjU1MLU0tLZyNjIpQAAF3xKqA</recordid><startdate>20150810</startdate><enddate>20150810</enddate><creator>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH</creator><creator>STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH</creator><creator>MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH</creator><creator>ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20150810</creationdate><title>METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM</title><author>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH ; STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH ; MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH ; ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_RU2558599C23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus</language><creationdate>2015</creationdate><topic>AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY</topic><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>CINEMATOGRAPHY</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>ELECTROGRAPHY</topic><topic>HOLOGRAPHY</topic><topic>PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES</topic><topic>PHOTOGRAPHY</topic><topic>PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH</au><au>STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH</au><au>MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH</au><au>ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM</title><date>2015-08-10</date><risdate>2015</risdate><abstract>FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste consisting of silver oxide AgO, palladium, fine glass particles and organic binder. The formed layer is dried and burned in an air atmosphere at 605-700°C. A glass layer is then removed from the surface of the obtained film by evaporation with high-power pulsed laser radiation with a wavelength in the absorption region of the glass. Use of laser radiation with a wavelength corresponding to the absorption maximum of the glass is preferable.EFFECT: wider spectral range of operation of the photosensitive silver-palladium resistive film.2 cl, 3 dwg, 1 ex Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра AgO, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки. Сформированный слой сушат и вжигают в воздушной атмосфере при температуре от 605 до 700°С. С поверхности полученной пленки удаляют стеклянный слой путем испарения мощным импульсным лазерным излучением с длиной волны, лежащей в области поглощения стекла. Предпочтительным является использование лазерного излучения с длиной волны, соответствующей максимуму поглощения стекла. Техническим результатом является расширение спектрального диапазона работы фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 пр.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; rus
recordid cdi_epo_espacenet_RU2558599C2
source esp@cenet
subjects AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CINEMATOGRAPHY
ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR,STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES
PHOTOGRAPHY
PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES
PHYSICS
SEMICONDUCTOR DEVICES
title METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-02-16T04%3A52%3A54IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SAUSHIN%20ALEKSANDR%20SERGEEVICH&rft.date=2015-08-10&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3ERU2558599C2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true