METHOD OF MAKING PHOTOSENSITIVE SILVER-PALLADIUM RESISTIVE FILM

FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste con...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SAUSHIN ALEKSANDR SERGEEVICH, STJAPSHIN VASILIJ MIKHAJLOVICH, MIKHEEV GENNADIJ MIKHAJLOVICH, ZONOV RUSLAN GENNAD'EVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:FIELD: physics, optics.SUBSTANCE: invention relates to optoelectronics, particularly a method of making photosensitive materials and devices. A method of making a photosensitive silver-palladium resistive film includes forming, on the surface of a dielectric substrate, a layer of resistive paste consisting of silver oxide AgO, palladium, fine glass particles and organic binder. The formed layer is dried and burned in an air atmosphere at 605-700°C. A glass layer is then removed from the surface of the obtained film by evaporation with high-power pulsed laser radiation with a wavelength in the absorption region of the glass. Use of laser radiation with a wavelength corresponding to the absorption maximum of the glass is preferable.EFFECT: wider spectral range of operation of the photosensitive silver-palladium resistive film.2 cl, 3 dwg, 1 ex Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра AgO, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки. Сформированный слой сушат и вжигают в воздушной атмосфере при температуре от 605 до 700°С. С поверхности полученной пленки удаляют стеклянный слой путем испарения мощным импульсным лазерным излучением с длиной волны, лежащей в области поглощения стекла. Предпочтительным является использование лазерного излучения с длиной волны, соответствующей максимуму поглощения стекла. Техническим результатом является расширение спектрального диапазона работы фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки. 1 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 пр.