DEVICE FOR APPLYING COATING ON POWDER OF SUPERCONDUCTING JOINTS
FIELD: electricity.SUBSTANCE: tray for high-temperature superconducting (HTS) powder is mounted coaxially to an arc evaporator. A rotated inductance coil and a metal perforated disc are installed on a flexible electroconductive shaft between the evaporator and the tray. The tray is equipped with vib...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: electricity.SUBSTANCE: tray for high-temperature superconducting (HTS) powder is mounted coaxially to an arc evaporator. A rotated inductance coil and a metal perforated disc are installed on a flexible electroconductive shaft between the evaporator and the tray. The tray is equipped with vibration and mechanic stirrers for powder. The arc evaporator is equipped with a cathode and the inner surface of a vacuum chamber and the surface of the electroconductive equipment serves as an anode. The vacuum chamber is equipped with a reaction gas feed system.EFFECT: improved quantum electromagnetic properties of nanosized crystals in coating particles for HTS powder.2 cl, 1 dwg
Устройство для нанесения покрытия на порошки сверхпроводящих соединений представляет собой вакуумную камеру с дуговым испарителем. Соосно дуговому испарителю установлен лоток для высокотемпературного сверхпроводящего (ВТСП) порошка. Между испарителем и лотком на вращающемся гибком электропроводном валу установлены вращающиеся катушка индуктивности и металлический перфорированный диск. Лоток оборудован вибрационным и механическим перемешивателями для порошка. Дуговой испаритель оборудован катодом, а внутренняя поверхность вакуумной камеры и поверхность электропроводного оборудования в ней являются анодом. Вакуумная камера оборудована системой подачи реакционного газа. Техническим результатом изобретения является улучшение квантовых электромагнитных свойств наноразмерных кристаллов покрытия частиц ВТСП-порошка. 1 з.п. ф-лы, 1 ил. |
---|