COMPOSITION FOR ELECTROLYTIC METAL DEPOSITION WITH LEVELLER
FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: invention refers to composition for electrolytic metal deposition, application of polyalkanolamine or its derivatives, and method of metal layer deposition. Composition for electrolytic metal deposition includes metal ion source and at least one leveller. Copper ions are...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: invention refers to composition for electrolytic metal deposition, application of polyalkanolamine or its derivatives, and method of metal layer deposition. Composition for electrolytic metal deposition includes metal ion source and at least one leveller. Copper ions are used as metal ions. Leveller is polyalkanolamine or its derivatives obtained by alkoxylation, substitution, or alkoxylation and substitution of polyalkanolamine. Polyalkanolamine is obtained by condensation of at least one trialkanolamine of a general formula N(R-OH)(la) and/or at least one dialkanolamine of a general formula R-N(R-OH)(lb), where Rradical is selected separately out of bivalent linear or bifurcated aliphatic hydrocarbon radical with 2 to 6 carbon atoms, Rradical is selected out of hydrogen, linear or bifurcated aliphatic, cycloaliphatic and aromatic hydrocarbon radicals with 1 to 30 carbon atoms. Polyalkanolamine or its derivatives are used in solution for electrolytic metal deposition. Method of metal layer deposition on a substrate involves application of solution for electrolytic metal deposition, containing the composition described above, on a substrate in advance. Then current of definite density is connected to the substrate for time period sufficient for metal layer deposition.EFFECT: obtainment of leveller with good levelling properties, obtainment of flat metal layer with level surface by flaw-free filling with nano-sized and micro-sized elements.15 cl, 6 dwg, 1 tbl, 17 ex
Изобретение относится к композиции для электролитического осаждения металла, применению полиалканоламина или его производных, а также к способу осаждения слоя металла. Композиция для электролитического осаждения металла содержит источник ионов металла и по меньшей мере один выравнивающий агент. В качестве ионов металла используют ион меди. Выравнивающий агент представляет собой полиалканоламин или его производные, получаемые алкоксилированием, замещением либо алкоксилированием и замещением полиалканоламина. Полиалканоламин получают конденсацией по меньшей мере одного триалканоламина общей формулы N(R-OH)(la) и/или по меньшей мере одного диалканоламина общей формулы R-N(R-OH)(lb), в котором радикал Rнезависимо выбран из двухвалентного линейного или разветвленного алифатического углеводородного радикала, имеющего от 2 до 6 атомов углерода, радикал Rвыбран из водорода, линейных или разветвленных алифатических, циклоалифатических и ароматических углеводородных радикалов, |
---|