POLISHING COMPOSITION
FIELD: chemistry.SUBSTANCE: polishing composition contains water suspension of polishing powder - polirite and polyoxyalkyleneglycol as defoaming additive, with the following component ration, wt %: polyoxyalkyleneglycol 0.01-0.03; water suspension of polishing powder counted per 10% suspension - th...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
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