POLISHING COMPOSITION

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: polishing composition contains water suspension of polishing powder - polirite and polyoxyalkyleneglycol as defoaming additive, with the following component ration, wt %: polyoxyalkyleneglycol 0.01-0.03; water suspension of polishing powder counted per 10% suspension - th...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	POPOK NADEZHDA ALEKSANDROVNA
Format:	Patent
Sprache:	eng ; rus
Schlagworte:	ADHESIVES CHEMISTRY DYES METALLURGY MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS MISCELLANEOUS COMPOSITIONS NATURAL RESINS PAINTS POLISHES POLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH SKI WAXES
Online-Zugang:	Volltext bestellen
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Beschreibung
Zusammenfassung:	FIELD: chemistry.SUBSTANCE: polishing composition contains water suspension of polishing powder - polirite and polyoxyalkyleneglycol as defoaming additive, with the following component ration, wt %: polyoxyalkyleneglycol 0.01-0.03; water suspension of polishing powder counted per 10% suspension - the remaining part.EFFECT: invention makes it possible to increase time of continuous work of polishing machines.6 tbl Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано для обработки оптических материалов. Полировальная композиция содержит водную суспензию полирующего порошка - полирита и полиоксиалкиленгликоль в качестве пеногасящей полиоргансилоксановой добавки при следующем соотношении компонентов, вес. %: полиоксиалкиленгликоль 0,01-0,03; водная суспензия полирующего порошка в расчете на 10%-ную суспензию - остальное. Изобретение позволяет увеличить время непрерывной работы полировальных станков. 6 табл.