METHOD FOR PRE-EPITAXIAL TREATMENT OF SURFACE OF GERMANIUM SUBSTRATE

FIELD: chemistry.SUBSTANCE: in a method for pre-epitaxial treatment of the surface of a germanium substrate, the process of removing the natural germanium oxide layer from the surface of the substrate and the process of removing inorganic impurities from the surface of the substrate are carried out in a single step on a hydromechanical washing apparatus using a solution of NHOH:HO:HO=1:1:40 for 2-5 minutes at 19-23°C. Passivation of the surface of the substrate is not carried out.EFFECT: invention reduces the number of steps of treating a substrate while improving the quality of the surface of the substrate at the same time. Изобретение относится к области полупроводниковой опто- и микроэлектроники и может быть использовано в электронной промышленности для создания электронных приборов и фотопреобразователей на основе полупроводниковых гетероструктур. В способе предэпитаксиальной обработки поверхности подложки из германия операцию удаления с поверхности подложки слоя естественного окисла германия и операцию очистки поверхности подложки от неорганических загрязнений осуществляют в одну стадию на установке гидромеханической отмывки с использованием раствора NHOH:HO:HO=1:1:40 в течение 2÷5 минут при температуре 19-23С. Операцию пассивации поверхности подложки не проводят. Изобретение позволяет сократить число стадий обработки подложки при одновременном улучшении качества ее поверхности.