DEVICE FOR SURFACE ETCHING FOR METALLOGRAPHIC ANALYSIS

FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: invention refers to a device for surface etching for metallographic analysis of samples. The device includes a cell for etching and facilities insulating an etched zone from surrounding areas of the surface. At that the cell involves facilities for attachment to an etched object, and the specified insulating facilities are made as an elastic packing. Also the cell has an attached reservoir with an etching solution, a reservoir with a washing solution and an inlet pipe for collection of a waste solution.EFFECT: device structure ensures an improvement of the surface preparation cleanliness for analysis and results reproducibility, also it ensures the possibility of operation not only on horizontal, but on inclined and vertical surfaces of structural elements of operating equipment in the field as well.6 cl, 2 dwg Изобретение относится к устройству травления поверхности для металлографического анализа образцов. Устройство включает ячейку для протравливания и средства, изолирующие протравливаемую зону от окружающих областей поверхности. При этом в ячейку включены средства для крепления к протравливаемому объекту, а указанные изолирующие средства выполнены в виде эластичной прокладки. Также к ячейке присоединен резервуар с протравливающим раствором, резервуар с промывочным раствором и выпускной шланг для сбора отработанных растворов. Конструкция устройства позволяет повысить чистоту подготовки поверхности для анализа и воспроизводимость результатов, а также обеспечивает возможность работы не только на горизонтальных, но и на наклонных и вертикальных поверхностях конструктивных элементов действующего оборудования в полевых условиях. 5 з.п. ф-лы, 2 ил.