METHOD OF GAS PRESSURE MEASUREMENT IN SOLDERED DISCHARGE CHAMBERS OF PLASMA FOCUS

FIELD: measuring instrumentation.SUBSTANCE: invention refers to methods of low gas pressure measurement in gas discharge chambers where plasma focus in the form of non-cylindrical Z-pinch is generated with current sheath of funnel-type form, and can be applied in such areas as high-power impulse electrophysics, plasma physics, where work gas pressure measurement is necessary in gas discharge chambers of plasma focus in 1-50 mmHg range. Method of gas pressure measurement in soldered discharge chambers of plasma focus involves supply of high voltage to discharge chamber electrodes, measurement of monitored parameter of plasma focus chamber, and determination of gas pressure by calibration curve of pressure dependence on the monitored parameter for this type of plasma focus discharge chamber; high voltage is supplied from capacitor, time interval from current increase start to abrupt fall (singularity time) is measured as a monitored parameter in oscillogram of discharge current running through plasma focus discharge chamber, and gas pressure is determined with obtained time interval value by calibration curve of gas pressure dependence on singularity time under supplied voltage for this plasma focus discharge chamber type.EFFECT: possible measurement of non-/radioactive work gas pressure in unsoldered plasma focus chamber.4 dwg Изобретение относится к способам измерения низких давлений газа в газоразрядных камерах, в которых образуется плазменный фокус (ПФ) - нецилиндрический Z-пинч, токовая оболочка которого имеет форму типа воронки, и может быть использовано в таких областях, как мощная импульсная электрофизика, физика плазмы, где необходимы измерения давления рабочего газа в газоразрядных камерах плазменного фокуса в диапазоне 1-50 мм рт.ст. Технический результат - возможность измерения давления как радиоактивного, так и нерадиоактивного рабочего газа в отпаянной камере ПФ. В способе измерения давления газа в запаянных разрядных камерах плазменного фокуса на электроды разрядной камеры плазменного фокуса подают высокое напряжение, измеряют контролируемый параметр камеры плазменного фокуса, а давление газа определяют, используя градуировочный график зависимости давления от контролируемого параметра для данного типа разрядной камеры плазменного фокуса, высокое напряжение подают с емкостного накопителя, на осциллограмме разрядного тока, протекающего через разрядную камеру плазменного фокуса, в качестве контролируемого параметра измеряют интервал времени от мо