SURFACE PROCESSING BY ARC DISCHARGE IN VACUUM
FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: arc discharge cathode spots are initiated at processed surface, arc discharge being initiated between anode and cathode in the mode of voltage-current characteristic of increasing section, said cathode being a processed surface. Region of cathode spot location on process...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: metallurgy.SUBSTANCE: arc discharge cathode spots are initiated at processed surface, arc discharge being initiated between anode and cathode in the mode of voltage-current characteristic of increasing section, said cathode being a processed surface. Region of cathode spot location on processed surface is localised and processed surface is shifted by anode displacement. Anode with current-collecting surface area smaller than that of cathode is used and placed at the distance from cathode that ensures a positive anode voltage drop.EFFECT: stabilised cathode spots on processed surface, fast surface cleaning and higher surface quality.2 dwg
Изобретение относится к способу обработки поверхности изделий дуговым разрядом в вакууме для удаления загрязнений. Технический результат изобретения состоит в обеспечении надежной фиксации и управляемого характера перемещения катодных пятен по очищаемой поверхности. Инициируют на обрабатываемой поверхности катодные пятна дугового разряда, который возбуждают в режиме возрастающего участка вольтамперной характеристики между анодом и катодом, который является обрабатываемой поверхностью. Осуществляют локализацию области существования катодных пятен на обрабатываемой поверхности и ее смещение путем перемещения анода. Используют анод с площадью токоприемной поверхности, меньшей площади катода, и устанавливают его на расстоянии от катода, обеспечивающем положительное анодное падение напряжения. Использование изобретения позволяет упростить стабилизацию катодных пятен на обрабатываемой поверхности, сократить время протекания технологического процесса очистки и повысить качество очищаемой поверхности. 2 ил. |
---|