APPLICATION METHOD ONTO METAL PART OF COMPLEX COATING FOR PROTECTION OF PART AGAINST HYDROGEN CORROSION, WHICH CONSISTS OF MANY MICROLAYERS
FIELD: machine building.SUBSTANCE: method involves degreasing of a part, arrangement of a part in a vacuum chamber, pumping of the chamber till vacuum, pre-cleaning in inert gas medium, ionic cleaning/etching of surface, deposition of layers by condensation with ionic bombardment and cooling in vacu...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: machine building.SUBSTANCE: method involves degreasing of a part, arrangement of a part in a vacuum chamber, pumping of the chamber till vacuum, pre-cleaning in inert gas medium, ionic cleaning/etching of surface, deposition of layers by condensation with ionic bombardment and cooling in vacuum, and then, in inert gas medium. The part is arranged at a flow focusing point of at least two vacuum arc plasma sources. Pre-cleaning is performed in environment of ionised inert gas. Ionic cleaning/etching of surface is performed by supplying to a substrate first of voltage in the range of 200-500 V; and then, it is smoothly or step-by-step increased to 1-1.5 kV. At that, for application of the coating microlayers there used are alloys on the basis of combinations of metals chosen from the group of Cr, Ni, W, Nb, Zr, Ti, Al, Mo by their simultaneous sputtering at the part rotation.EFFECT: improvement of operability, reliability and durability of coated parts.2 cl, 2 dwg
Изобретение относится к области атомного и химического машиностроения, а именно к способам нанесения покрытий для защиты деталей от водородной коррозии. Технический результат - повышение работоспособности, надежности и увеличение долговечности деталей с покрытием. Способ включает обезжиривание детали, размещение детали в вакуумной камере, откачку камеры до вакуума, предварительную очистку в среде инертного газа, ионную очистку/травление поверхности, осаждение слоев конденсацией с ионной бомбардировкой и охлаждение в вакууме, а затем в среде инертного газа. Размещение детали выполняют в точке фокусирования потоков не менее чем двух вакуумных дуговых источников плазмы. Предварительную очистку выполняют в среде ионизированного инертного газа. Ионную очистку/травление поверхности выполняют путем подачи на подложку сначала напряжения в диапазоне 200-500 В, затем повышают его плавно или ступенчато до 1-1,5 кВ. При этом для нанесения микрослоев покрытия используют сплавы на основе сочетаний металлов, выбранных из группы Cr, Ni, W, Nb, Zr, Ti, Al, Mo, распыляя их одновременно при вращении детали. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. |
---|