METHOD FOR REMOVING RADIOACTIVE FILM FROM OBJECT SURFACE

FIELD: power industry.SUBSTANCE: method for removing radioactive film from object surface consists in formation of laser emission beam on object surface, scanning of dirty object surface by means of formed laser emission beam through film material that is transparent for laser emission; at that, the above film material is arranged between laser emission source and dirty surface of the object; after scanning is completed, film material is removed. Prior to scanning operation between object surfaces and transparent film material there created is constant electric field U by means of an electrode such that energy Atransferred to positively charged particle in electric field exceeds kinetic energy Aof that particle, and electric field has reverse polarity in relation to particles spread during laser deactivation; value of electric field shall exceed the following value:where k - Boltzmann constant, T - particle temperature, L - distance between treated surface and mesh, d - distance between treated surface and transparent adsorbing film, q - particle charge.EFFECT: invention allows increasing the efficiency of radioactive film removal process.2 cl, 1 dwg Способ удаления радиоактивной пленки с поверхности объекта относится к области обработки материалов с радиоактивным загрязнением. Способ удаления радиоактивной пленки с поверхности объекта заключается в формировании пучка лазерного излучения на поверхности объекта, сканировании сформированным пучком лазерного излучения по всей загрязненной поверхности объекта через прозрачный для лазерного излучения пленочный материал, размещенный между источником лазерного излучения и загрязненной поверхностью объекта, после окончания сканирования пленочный материал удаляют. Перед сканированием между поверхностями объекта и прозрачным пленочным материалом создают постоянное электрическое поле U с помощью электрода, такое, что энергия A, сообщаемая положительно заряженной частице в электрическом поле, превышает кинетическую энергию этой частицы A, а электрическое поле имеет обратную полярность по отношению к разлетающимся при лазерной дезактивации частицам, величина электрического поля должна превышать следующее значение:, где k - постоянная Больцмана, T - температура частицы, L - расстояние между обрабатываемой поверхностью и сеткой, d - расстояние между обрабатываемой поверхностью и прозрачной адсорбирующей пленкой, q - заряд частицы. Изобретение позволяет повысить эффективность процесса удаления радиоактивной пленки. 1 з.п.