CHARGE FOR COMPOSITE CATHODE, AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

FIELD: metallurgy. ^ SUBSTANCE: charge for composite cathode contains the following, wt %: TiAl3 20.0-60.0; titanium is the rest; at that, dispersability of initial powders is 50-125 mcm. New composite cathodes are obtained from charge by pressing workpieces of the required shape and dimensions and...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: FIRSINA IRINA ALEKSANDROVNA, KORZHOVA VIKTORIJA VIKTOROVNA, KOROSTELEVA ELENA NIKOLAEVNA, SAVITSKIJ ARNOL'D PETROVICH, PRIBYTKOV GENNADIJ ANDREEVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:FIELD: metallurgy. ^ SUBSTANCE: charge for composite cathode contains the following, wt %: TiAl3 20.0-60.0; titanium is the rest; at that, dispersability of initial powders is 50-125 mcm. New composite cathodes are obtained from charge by pressing workpieces of the required shape and dimensions and further sintering in vacuum. ^ EFFECT: obtained cathodes have homogeneous structure with fine porosity, hold their initial shape, require no further heat treatment and machining and are suitable for being used in equipment for application of ion-plasma coatings. ^ 7 cl, 1 tbl, 5 ex Изобретение относится к порошковой металлургии, в частности к получению композиционных катодов для ионно-плазменного напыления многокомпонентных наноструктурных покрытий. Может использоваться в химической, станкоинструментальной промышленности, машиностроении и металлургии. Шихта для композиционного катода содержит, мас.%: ТiАl3 20,0-60,0; титан остальное, при этом дисперсность исходных порошков составляет 50-125 мкм. Из шихты получают композиционные катоды путем прессования заготовок необходимой формы и размеров и последующего спекания в вакууме. Полученные катоды имеют однородную структуру с мелкодисперсной пористостью, сохраняют свою исходную форму, не требуют дальнейшей термо- и механической обработки и пригодны для использования в оборудовании для нанесения ионно-плазменных покрытий. 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 1 табл., 5 пр.