METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT

FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to metal and semiconductor forming. Proposed method comprises metal forming with application of pulsed electric field for plastification and reduction of material strain resistance. Note here that short pulses of electric field are applied t...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SURMA ALEKSEJ MARATOVICH, KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH, TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH, PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH, STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH, EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
container_end_page
container_issue
container_start_page
container_title
container_volume
creator SURMA ALEKSEJ MARATOVICH
KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH
TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH
PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH
STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH
EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH
description FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to metal and semiconductor forming. Proposed method comprises metal forming with application of pulsed electric field for plastification and reduction of material strain resistance. Note here that short pulses of electric field are applied to billet. Pulse duration approximates to dielectric Maxwell relaxation interval defined by relation ÿm=0ü/4Ç, where 0 is dielectric coefficient of vacuum equal to 8.85418ù10-14 (S.s/Vcm), is relative dielectric factor of material, ü is material specific resistance, (Ohm cm), while field intensity varies from tens to hundreds of V/cm. This causes polarisation of dislocations in surface near-surface layers of processed material and their orientation along electric field lines. ^ EFFECT: electric plastification, reduced resistance of material and power savings. ^ 1 ex Изобретение относится к способам обработки давлением твердых материалов - металлов и полупроводников, в частности прокатке, штамповке, волочению и плющению. Способ включает механическую обработку давлением с одновременным приложением импульсного электрического поля для пластификации и снижения сопротивления материала деформированию, при этом к заготовке прикладывают короткие импульсы электрического поля с длительностью порядка диэлектрического максвелловского времени релаксации, определяемой формулой Θm=εoερ/4π, где εo - диэлектрическая проницаемость вакуума, равная 8,85418×10-14 (А·сек/В·см), ε - относительная диэлектрическая проницаемость материала, ρ - удельное сопротивление материала (Ом·см), а значения напряженности электрического поля составляют от десятков до сотен В/см. Это вызывает поляризацию дислокаций в поверхностных и приповерхностных слоях обрабатываемого материала и их ориентацию по направлению линий электрического поля. В результате достигается эффект электропластификации, уменьшается сопротивление материала и снижаются затраты энергии на процесс механической обработки. 1 ил.
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_RU2432216C2</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>RU2432216C2</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_RU2432216C23</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZHDzdQ3x8HdR8HdTALIcfRQc_VwUgl19PZ39_VxCnUP8gxTc_IN8Pf3cFUKDQaSrj6tzSJC_QoCPY3CIp7OCq5sbUICHgTUtMac4lRdKczMouLmGOHvophbkx6cWFyQmp-allsQHhRqZGBsZGZo5GxkToQQASnYr5Q</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT</title><source>esp@cenet</source><creator>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH ; KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH ; TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH ; PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH ; STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH ; EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</creator><creatorcontrib>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH ; KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH ; TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH ; PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH ; STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH ; EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</creatorcontrib><description>FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to metal and semiconductor forming. Proposed method comprises metal forming with application of pulsed electric field for plastification and reduction of material strain resistance. Note here that short pulses of electric field are applied to billet. Pulse duration approximates to dielectric Maxwell relaxation interval defined by relation ÿm=0ü/4Ç, where 0 is dielectric coefficient of vacuum equal to 8.85418ù10-14 (S.s/Vcm), is relative dielectric factor of material, ü is material specific resistance, (Ohm cm), while field intensity varies from tens to hundreds of V/cm. This causes polarisation of dislocations in surface near-surface layers of processed material and their orientation along electric field lines. ^ EFFECT: electric plastification, reduced resistance of material and power savings. ^ 1 ex Изобретение относится к способам обработки давлением твердых материалов - металлов и полупроводников, в частности прокатке, штамповке, волочению и плющению. Способ включает механическую обработку давлением с одновременным приложением импульсного электрического поля для пластификации и снижения сопротивления материала деформированию, при этом к заготовке прикладывают короткие импульсы электрического поля с длительностью порядка диэлектрического максвелловского времени релаксации, определяемой формулой Θm=εoερ/4π, где εo - диэлектрическая проницаемость вакуума, равная 8,85418×10-14 (А·сек/В·см), ε - относительная диэлектрическая проницаемость материала, ρ - удельное сопротивление материала (Ом·см), а значения напряженности электрического поля составляют от десятков до сотен В/см. Это вызывает поляризацию дислокаций в поверхностных и приповерхностных слоях обрабатываемого материала и их ориентацию по направлению линий электрического поля. В результате достигается эффект электропластификации, уменьшается сопротивление материала и снижаются затраты энергии на процесс механической обработки. 1 ил.</description><language>eng ; rus</language><subject>MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVINGMATERIAL ; PERFORMING OPERATIONS ; PUNCHING METAL ; ROLLING OF METAL ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2011</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20111027&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2432216C2$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,777,882,25545,76296</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20111027&amp;DB=EPODOC&amp;CC=RU&amp;NR=2432216C2$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</creatorcontrib><title>METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT</title><description>FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to metal and semiconductor forming. Proposed method comprises metal forming with application of pulsed electric field for plastification and reduction of material strain resistance. Note here that short pulses of electric field are applied to billet. Pulse duration approximates to dielectric Maxwell relaxation interval defined by relation ÿm=0ü/4Ç, where 0 is dielectric coefficient of vacuum equal to 8.85418ù10-14 (S.s/Vcm), is relative dielectric factor of material, ü is material specific resistance, (Ohm cm), while field intensity varies from tens to hundreds of V/cm. This causes polarisation of dislocations in surface near-surface layers of processed material and their orientation along electric field lines. ^ EFFECT: electric plastification, reduced resistance of material and power savings. ^ 1 ex Изобретение относится к способам обработки давлением твердых материалов - металлов и полупроводников, в частности прокатке, штамповке, волочению и плющению. Способ включает механическую обработку давлением с одновременным приложением импульсного электрического поля для пластификации и снижения сопротивления материала деформированию, при этом к заготовке прикладывают короткие импульсы электрического поля с длительностью порядка диэлектрического максвелловского времени релаксации, определяемой формулой Θm=εoερ/4π, где εo - диэлектрическая проницаемость вакуума, равная 8,85418×10-14 (А·сек/В·см), ε - относительная диэлектрическая проницаемость материала, ρ - удельное сопротивление материала (Ом·см), а значения напряженности электрического поля составляют от десятков до сотен В/см. Это вызывает поляризацию дислокаций в поверхностных и приповерхностных слоях обрабатываемого материала и их ориентацию по направлению линий электрического поля. В результате достигается эффект электропластификации, уменьшается сопротивление материала и снижаются затраты энергии на процесс механической обработки. 1 ил.</description><subject>MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVINGMATERIAL</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>PUNCHING METAL</subject><subject>ROLLING OF METAL</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2011</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZHDzdQ3x8HdR8HdTALIcfRQc_VwUgl19PZ39_VxCnUP8gxTc_IN8Pf3cFUKDQaSrj6tzSJC_QoCPY3CIp7OCq5sbUICHgTUtMac4lRdKczMouLmGOHvophbkx6cWFyQmp-allsQHhRqZGBsZGZo5GxkToQQASnYr5Q</recordid><startdate>20111027</startdate><enddate>20111027</enddate><creator>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH</creator><creator>KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH</creator><creator>TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH</creator><creator>PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH</creator><creator>STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH</creator><creator>EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20111027</creationdate><title>METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT</title><author>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH ; KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH ; TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH ; PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH ; STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH ; EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_RU2432216C23</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; rus</language><creationdate>2011</creationdate><topic>MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVINGMATERIAL</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>PUNCHING METAL</topic><topic>ROLLING OF METAL</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH</creatorcontrib><creatorcontrib>EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>SURMA ALEKSEJ MARATOVICH</au><au>KUZNETSOV VLADIMIR MIKHAJLOVICH</au><au>TROITSKIJ OLEG ALEKSANDROVICH</au><au>PETROV VLADIMIR ALEKSANDROVICH</au><au>STASHENKO VLADIMIR IVANOVICH</au><au>EVSEEV JURIJ ALEKSEEVICH</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT</title><date>2011-10-27</date><risdate>2011</risdate><abstract>FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to metal and semiconductor forming. Proposed method comprises metal forming with application of pulsed electric field for plastification and reduction of material strain resistance. Note here that short pulses of electric field are applied to billet. Pulse duration approximates to dielectric Maxwell relaxation interval defined by relation ÿm=0ü/4Ç, where 0 is dielectric coefficient of vacuum equal to 8.85418ù10-14 (S.s/Vcm), is relative dielectric factor of material, ü is material specific resistance, (Ohm cm), while field intensity varies from tens to hundreds of V/cm. This causes polarisation of dislocations in surface near-surface layers of processed material and their orientation along electric field lines. ^ EFFECT: electric plastification, reduced resistance of material and power savings. ^ 1 ex Изобретение относится к способам обработки давлением твердых материалов - металлов и полупроводников, в частности прокатке, штамповке, волочению и плющению. Способ включает механическую обработку давлением с одновременным приложением импульсного электрического поля для пластификации и снижения сопротивления материала деформированию, при этом к заготовке прикладывают короткие импульсы электрического поля с длительностью порядка диэлектрического максвелловского времени релаксации, определяемой формулой Θm=εoερ/4π, где εo - диэлектрическая проницаемость вакуума, равная 8,85418×10-14 (А·сек/В·см), ε - относительная диэлектрическая проницаемость материала, ρ - удельное сопротивление материала (Ом·см), а значения напряженности электрического поля составляют от десятков до сотен В/см. Это вызывает поляризацию дислокаций в поверхностных и приповерхностных слоях обрабатываемого материала и их ориентацию по направлению линий электрического поля. В результате достигается эффект электропластификации, уменьшается сопротивление материала и снижаются затраты энергии на процесс механической обработки. 1 ил.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; rus
recordid cdi_epo_espacenet_RU2432216C2
source esp@cenet
subjects MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVINGMATERIAL
PERFORMING OPERATIONS
PUNCHING METAL
ROLLING OF METAL
TRANSPORTING
title METHOD OF METAL AND SEMICONDUCTOR FORMING USING ELECTRO PLASTIC EFFECT
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-17T18%3A34%3A41IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=SURMA%20ALEKSEJ%20MARATOVICH&rft.date=2011-10-27&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3ERU2432216C2%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true