METHOD OF OBTAINING COMPLEX NITRIDE-BASED COATING
FIELD: chemistry. ^ SUBSTANCE: substrate is put into the chamber of an apparatus fitted with a magnetron sputtering device, an electric-arc evaporator and a resistance heater. The surface of the substrate is cleaned in glow discharge with non-contact heating of the surface using the resistance heate...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: chemistry. ^ SUBSTANCE: substrate is put into the chamber of an apparatus fitted with a magnetron sputtering device, an electric-arc evaporator and a resistance heater. The surface of the substrate is cleaned in glow discharge with non-contact heating of the surface using the resistance heater to temperature 100C and ionic cleaning is carried using the electric-arc evaporator in an inert gas medium while heating the surface to temperature 300Ç350C. A titanium base layer is then deposited on the substrate through electric-arc evaporation of a titanium cathode in an inert gas medium and alternating layers from two-component titanium nitride and three-component aluminium and titanium nitride are deposited in a gaseous mixture of inert and reaction gases. The titanium nitride layer is deposited first and the aluminium and titanium nitride layer is deposited last. The titanium nitride layers are obtained via magnetron sputtering of a titanium target, and the aluminium and titanium nitride layers are obtained via simultaneous electric-arc evaporation of an aluminium cathode and magnetron sputtering of a titanium target. ^ EFFECT: high wear-, impact-, thermal-, crack- and corrosion-resistance of the processed surface.
Изобретение относится к получению покрытий на основе сложных нитридов и может быть использовано в горнодобывающей, нефтяной и машиностроительной промышленности для нанесения покрытий на инструменты, клапаны, эксцентрики, втулки и т.д. Согласно способу помещают подложку в вакуумную камеру установки, оснащенную магнетронным распылителем, электродуговым испарителем и резистивным нагревателем, проводят очистку поверхности подложки в тлеющем разряде при бесконтактном нагреве поверхности резистивным нагревателем до 100°С и ионную очистку электродуговым испарителем в среде инертного газа при нагреве поверхности до температуры 300...350°С. Затем на подложку наносят нижний слой титана электродуговым испарителем титанового катода в среде инертного газа и чередующиеся слои из двухкомпонентного нитрида титана и трехкомпонентного нитрида титана и алюминия в газовой смеси инертного и реакционного газов. Первым наносят слой нитрида титана, а последним - слой нитрида титана и алюминия. Слои нитрида титана получают магнетронным распылением титановой мишени, а слои нитрида титана и алюминия получают при одновременном электродуговом испарении алюминиевого катода и магнетронном распылении титановой мишени. Технический результат - повышение износо-, ударо-, тепло |
---|