DISTRIBUTION PLATE

FIELD: process engineering. ^ SUBSTANCE: invention relates to nozzle distribution plate intended for uniform feed of process gas into reactor. Reactor for thermal treatment of charge material comprises distribution plate to uniformly feed process gas loaded by solid particles to produce vortex layer in process space above distribution plate formed by reactor walls. Distribution plate has multiple orifices, including wall orifices arranged at such distance from reactor walls that the distance to their central axis makes 1 to 10, in particular, 2 diametres of said orifice, or distance from wall orifice central axis-to-distribution plate radius ratio makes 0.9-1. ^ EFFECT: higher flow rate and sufficient flow of process gas to prevent sintering on distribution plate. ^ 21 cl, 5 dwg Изобретение относится к сопловой распределительной тарелке для равномерного ввода технологического газа в реактор. Реактор для металлургической, в особенности термической обработки загружаемого материала с сопловой распределительной тарелкой для равномерного ввода технологического газа, нагруженного твердыми частицами, при необходимости, для формирования вихревого слоя, в технологическом пространстве, расположенном над распределительной тарелкой, образованном реакторными стенками реактора. Распределительная тарелка имеет множество отверстий, в их числе пристеночные отверстия, которые размещены на таком расстоянии от реакторных стенок, что расстояние до их центральной оси, соответственно, составляет максимально от 1- до 10-кратного, в частности 2-кратный диаметр отверстия, или отношение расстояния от центральной оси пристеночного отверстия до центральной оси распределительной тарелки к радиусу распределительной тарелки составляет 0,9-1. Изобретение обеспечивает большую скорость течения и достаточный поток технологического газа и предотвращает припекания на распределительной тарелке. 20 з.п. ф-лы, 5 ил.