METHOD OF ANALYSING QUANTUM EFFICIENCY OF SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND ANALYSIS SYSTEM USING SAID METHOD

FIELD: physics. ^ SUBSTANCE: method involves providing an image of the semiconductor layer of a semiconductor light-emitting device, conversion of this image to a binary image, obtaining a Reni dimension Dq for degree q as a multifractal analysis parametre of the binary image, and determination of t...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: SHMIDT NATALIJA MIKHAJLOVNA, LI KHIUN DZUNG, KIM BAE KIUN, BRUN'KOV PAVEL NIKOLAEVICH, CHERNJAKOV ANTON EVGEN'EVICH, KOLMAKOV ALEKSEJ GEORGIEVICH
Format: Patent
Sprache:eng ; rus
Schlagworte:
Online-Zugang:Volltext bestellen
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:FIELD: physics. ^ SUBSTANCE: method involves providing an image of the semiconductor layer of a semiconductor light-emitting device, conversion of this image to a binary image, obtaining a Reni dimension Dq for degree q as a multifractal analysis parametre of the binary image, and determination of the Reni dimension Dq as a quantum efficiency criterion for the semiconductor light-emitting device. ^ EFFECT: possibility of analysing quantum efficiency of a semiconductor device through objective quantitative evaluation of the crystalline state of the semiconductor layer of the said device. ^ 3 cl, 5 dwg Изобретение относится к измерительной технике. Способ включает в себя обеспечение изображения слоя полупроводника полупроводникового светоизлучающего прибора, преобразование этого изображения в двоичное изображение, получение размерности Реньи Dq для степени q в качестве параметра мультифрактального анализа двоичного изображения и определение размерности Реньи Dq в качестве критерия квантовой эффективности полупроводникового светоизлучающего прибора. Технический результат - возможность анализа квантовой эффективности полупроводникового прибора путем объективной количественной оценки кристаллического состояния слоя полупроводника полупроводникового светоизлучающего прибора. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.