POLYTETRAFLUOROETHYLENE OXIDE SYNTHESIS METHOD
FIELD: chemistry. ^ SUBSTANCE: invention relates to synthesis of highly stable, chemical-resistant perfluoropolyesters based on tetrafluoroethylene which are used as a base for low-temperature oil lubricants for space-rocket equipment. The invention describes a method of producing polytetrafluoroeth...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: chemistry. ^ SUBSTANCE: invention relates to synthesis of highly stable, chemical-resistant perfluoropolyesters based on tetrafluoroethylene which are used as a base for low-temperature oil lubricants for space-rocket equipment. The invention describes a method of producing polytetrafluoroethylene oxide through photooxidation of tetrafluoroethylene with oxygen under UV radiation in the presence of a solvent and subsequent solvent distillation. The method is distinguished by that the process is carried out at temperature between minus 40C and minus 60C. The solvent used is perfluorotriethylamine. After solvent distillation, the product undergoes thermal treatment at 300-350C and stabilisation with fluorine at 180-260C. ^ EFFECT: design of an efficient method of producing highly stable chemical-resistant perfluoropolyesters based on tetrafluoroethylene. ^ 1 cl, 2 ex, 2 tbl
Изобретение относится к получению высокостабильных химически стойких перфторполиэфиров на основе тетрафторэтилена, используемых в качестве основы низкотемпературных смазочных масел для изделий ракетно-космической техники. Описан способ получения политетрафторэтиленоксида путем фотоокисления тетрафторэтилена кислородом под действием УФ-облучения в присутствии растворителя и последующей отгонки растворителя, отличающийся тем, что процесс проводят при температуре минус 40 - минус 60°С, в качестве растворителя используют перфтортриэтиламин, после отгонки растворителя продукт подвергают термической обработке при 300-350°С и стабилизации элементарным фтором при 180-260°С. 2 табл. |
---|