DUAL MAGNETRON SPRAY-TYPE SYSTEM

FIELD: metallurgy. ^ SUBSTANCE: invention relates to plasma technology, particularly to dual magnetron spray-type system and can be used for application of thin films of metals and its compounds in different field of technologies. Dual magnetron spray-type system contains located in one plane nearby each other two planar magnetrons, each of which contains casing, magnetic system and flat plate target, and feed system with changed polarity. Both magnetrons are located in additional total casing insulated from it. Between planar magnetron it is located additional magnetic system, polarity of which coincide with polarity of central magnet of magnetic system of each magnetron. Magnetrons are connected to feed system with changeable polarity so, that at the same moment of time voltage sign on magnetrons is opposite. ^ EFFECT: development of effective dual magnetron spray-type system. ^ 2 dwg Изобретение относится к плазменной технике, в частности к дуальной магнетронной распылительной системе, и может найти применение для нанесения тонких пленок из металлов и их соединений в различных отраслях техники. Дуальная магнетронная распылительная система содержит расположенные в одной плоскости рядом друг с другом два планарных магнетрона, каждый из которых содержит корпус, магнитную систему и плоскую мишень, и систему питания с изменяемой полярностью. Оба магнетрона размещены в дополнительном общем корпусе изолировано от него. Между планарными магнетронами расположена дополнительная магнитная система, полярность которой совпадает с полярностью центрального магнита магнитной системы каждого магнетрона. Магнетроны подключены к системе питания с изменяемой полярностью таким образом, что в один и тот же момент времени полярность напряжения на магнетронах противоположна. 2 ил.