METHOD FOR MEASUREMENT OF RADICAL CONCENTRATION IN GAS FLOW
FIELD: physics. ^ SUBSTANCE: invention is related to measurements of radicals in research of photochemical and plasmachemical processes in laser systems, and also in manufacture of plasmachemical reactors in technology of semi-conductor instruments making in micro- and nano-electronics. Method consi...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; rus |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | FIELD: physics. ^ SUBSTANCE: invention is related to measurements of radicals in research of photochemical and plasmachemical processes in laser systems, and also in manufacture of plasmachemical reactors in technology of semi-conductor instruments making in micro- and nano-electronics. Method consists in the fact that at gas flow at the outlet of discharge gap, which generates disintegrating plasma with chemically active particles (radicals), additional high-frequency discharge is applied, into which energy is put that does not exceed 5% of energy put into the main discharge. Actinometry method is used to measure concentration of radicals in the main charge and in additional discharge in specified area of gas flow, then concentration of radicals is measured only in additional discharge with unavailability of the main discharge, and difference of two measurements in additional discharge is used to define concentration of radicals generated by the main discharge, in specified area of gas flow under condition of plasma decomposition and radicals destruction. ^ EFFECT: possibility to measure concentration of radicals at the outlet of discharge gap in specified area of gas flow in decomposed plasma. ^ 1 dwg
Изобретение относится к измерениям радикалов при исследовании фотохимических и плазмохимических процессов в лазерных системах, а также при использовании плазмохимических реакторов в технологии изготовления полупроводниковых приборов в микро- и наноэлектронике. Способ заключается в том, что на поток газа на выходе разрядного промежутка, генерирующего распадающуюся плазму с химически активными частицами (радикалами), накладывается дополнительный высокочастотный разряд, в который вкладывается энергия, не превышающая 5% энергии, вкладываемой в основной разряд. Методом актинометрии измеряют концентрацию радикалов в основном разряде и в дополнительном разряде в заданной области потока газа, затем измеряют концентрацию радикалов только в дополнительном разряде при отсутствии основного разряда, а по разнице двух измерений в дополнительном разряде определяют концентрацию радикалов, генерируемых основным разрядом, в заданной области потока газа в условиях, когда происходит распад плазмы и гибель радикалов. Изобретение позволяет измерять концентрации радикалов на выходе разрядного промежутка в заданной области потока газа в распадающейся плазме. 1 ил. |
---|