PROCESS FOR PREPARING THIN FILMS OF HEA ALLOY OF THE AL-CO-CR-CU-FE-MN-NI SYSTEM, WITH ANTICORROSIVE PROPERTIES

The invention relates to a process for preparing thin-film coatings from high-entropy alloys HEA with 5 elements of the Al-Co-Cr-Cu-Fe-Mn-Ni system, for coating metal parts working in hard/corrosive environments, in order to increase their mechanical strength, hardness, rigidity, corrosion-resistance and the like. According to the invention, the process consists of one-step electrochemical co-deposition, in potentiostatic regime, from a solution of organic solvents dimethylformamide or dimethylsulfoxide and acetonitrile, in a volume ratio of 2...4:1, with 0.1...0.5 Mx1-1 lithium perchlorate, as support electrolyte, and using 0.01...0.05 Mx1-1 chlorides of the component metals of the selected alloy, as raw material, in equimolar ratio, a cathode consisting of the metal substrate on which the alloy is deposited, an anode made of a platinum plate and a quasi-reference electrode of platinum wire, where the operating temperature is within the range of 18...25°C, with applied voltage within the range of 1.5...2.8 V, current density within the range of 1...5 mAxcm-2, deposition time within the range of 15...60 minutes, anode-cathode distance within the range of 2...2.5 cm and anode/cathode area ratio=1...4/1, the so-obtained HEA films exhibiting in synthetic seawater corrosion potentials of 280...300 mV and penetration rates of 0.07...0.08 mm/year. Invenţia se referă la un procedeu de obţinere a acoperirilor cu filme subţiri, din aliaje cu entropie înaltă HEA cu 5 elemente din sistemul Al - Co - Cr - CU - Fe - Mn - Ni, a unor piese metalice care lucreză în medii dure/corozive, pentru a le mări rezistenţa mecanică, duritatea, rigiditatea, rezistenţa la coroziune şi altele asemenea. Procedeul conform invenţiei constă în co - depunerea electrochimică în regim potenţiostatic, într-o singură etapă, dintr-o soluţie de solvenţi organici dimetilformamidă sau dimetilsulfoxid şi acetonitril, în raport volumic de 2...4 : 1, cu 0,1...0,5 M x 1-1 perclorat de litiu drept electrolit suport şi utilizând drept materie primă 0,01...0,05 M x 1-1 cloruri ale metalelor componente ale aliajului selectat, în raport echimolar, un catod constând din substratul metalic pe care se depune aliajul, un anod realizat dintr-o placă de platină şi un electrod de cvasi - referinţă din fir de platină, iar temperatura de lucru este cuprinsă între 18...25°C, cu tensiunea aplicată cuprinsă între 1,5...2,8 V, densitatea de curent cuprinsă între 1...5 mA x cm-2, având timpul de depunere cuprins între 1