Method of depositing the layer that promotes the healing of a postoperative wound on the mesh of prosthetic hernias and the layer that promotes healing

Przedmiotem wynalazku jest sposób osadzania warstwy promującej gojenie rany pooperacyjnej na siateczkach protetycznych, zwłaszcza na siateczkach wykonanych z polipropylenu, poliestru lub z poli(tetrafluoroetylenu) (ePTFE) oraz warstwa promująca gojenie rany pooperacyjnej. Warstwę promującą gojenie osadza się w urządzeniu ALD. W sposobie tym, najpierw protetyczną sterylną siateczkę polipropylenową lub polimerową, umieszcza się w zimnej komorze reakcyjnej reaktora ALD a następnie komorę reakcyjną podgrzewa się stopniowo do temperatury 90°C - 100°C. Po osiągnięciu tej temperatury, prowadzi się w co najmniej 66 cyklach osadzanie warstwy dwutlenku hafnu (HfO2). Po zakończeniu osadzania komorę reakcyjną stopniowo schładza się do temperatury pokojowej. Warstwę promująca gojenie, stanowi powłoka dwutlenku hafnu (HfO2) korzystnie, o grubości 50 - 100 nm osadzona metodą ALD.